鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點

1.   分析流程全自動化控制，實現(xiàn)軟件點火、氣路智能控制功能；

2.   輸出功率自動匹配調諧，功率參數(shù)程序設定；      

3.   優(yōu)良的光學系統(tǒng)，先進的控制系統(tǒng)，保證峰位定位準確，信背比優(yōu)良；

4.   較小的基體效應；      

5.   測量范圍寬，超微量到常量的分析，動態(tài)線性范圍5—6個數(shù)量級；

6.   檢出限低，大多數(shù)元素的檢出限可達ppb級；

7.   良好的測量精度，穩(wěn)定性相對標準偏差RSD≤1.5%（5ppm），優(yōu)于國家A等級標準（JJG768-2005）；

8.  

Rf輸出功率的范圍750-1500W，輸出功率穩(wěn)定性小于0.1%；

9.   光電倍增管的負高壓可在0-1000V范圍內獨立可調，可根據(jù)不同元素的不同譜線單獨設置條件，和全譜儀器比較有更好的檢出限；

10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全；

11. 精度較高的光室恒溫系統(tǒng)，保證儀器優(yōu)良的長短期精度；

12. 多通道蠕動泵進樣，保證儀器進樣均勻，工作穩(wěn)定；

13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃，在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m（JJG768-2005規(guī)定小于10V/m）。

14. 具有較高的譜線分辨率，能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線，能分出鐵的四重峰。

15. 人性化的軟件設計，操作方便，終身免費升級。功能強大、友好的人機界面分析軟件,可在測定過程中，進行數(shù)據(jù)處理，方法編制和結果分析，是真正的多任務工作軟件；該軟件數(shù)據(jù)處理功能強大，提供了多種方法，如內標校正、IECS和QC監(jiān)測功能等，可獲得的背景扣除點以消除干擾；對輸出數(shù)據(jù)可直接打印或自動生成Excel格式的結果報告。

Plasma2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項”成果。采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現(xiàn)全譜采集。儀器穩(wěn)定性好、檢測限低、快速分析、運行成本低。

鋼研納克Plasma2000 全譜電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環(huán)境、衛(wèi)生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業(yè)、農業(yè)、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析。可以快速、準確地檢測從微量到常量約70種元素。

Plasma 2000 技術特點

1.  優(yōu)異的光學系統(tǒng)

2.  固態(tài)有效射頻發(fā)生器，體積更加小巧

3.  流程自動化，狀態(tài)監(jiān)控及自動保護

4.  科研級檢測器，極高的紫外量化效率

5.  強大分析譜線

6.  信息直觀豐富

7.  多窗口多方法

8.  編輯功能強大

9.  智能譜圖標定

10. 智能干擾矯正

想了解更多產品信息您可撥打公司熱線進行咨詢！鋼研納克竭誠為您服務！