由于鎂合金微弧陶瓷復(fù)合處理技術(shù)繼承了微弧氧化工藝的普遍優(yōu)點(diǎn)，無需對工件進(jìn)行復(fù)雜的前處理，大大減少了污水排放，而且處理過程中無環(huán)保限制元素加入，實(shí)現(xiàn)了對環(huán)境的零污染。微弧氧化電源可存儲或調(diào)用多套工藝參數(shù)，自動化程度高，可大幅度提高工件陽極氧化膜層的硬度和氧化膜層的耐蝕性、致密性。另微弧復(fù)合處理周期短，生產(chǎn)及日常維護(hù)成本低廉，可實(shí)現(xiàn)全自動控制生產(chǎn)，生產(chǎn)并且極大節(jié)約了人力資源成本，使其規(guī)?；b備制造業(yè)已無后顧之憂。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化工藝

微弧氧化

       采用微弧氧化技術(shù)對鋁及其合金材料進(jìn)行表面強(qiáng)化處理，具有工藝過程簡單，占地面積小，處理能力強(qiáng)，生產(chǎn)，適用于大工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。2、微弧氧化溶液溫度過高時，堿性電解液對氧化膜的溶解作用增強(qiáng)，致使膜厚與硬度顯著下降，且溶液易飛濺，膜層也易被局部燒焦或擊穿。微弧氧化電解液不含有毒物質(zhì)和重金屬元素，電解液抗污染能力強(qiáng)和再生重復(fù)使用率高，因而對環(huán)境污染小，滿足優(yōu) 質(zhì)清潔生產(chǎn)的需要，也符合我國可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的需要。微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高，耐蝕性強(qiáng)（CASS鹽霧試驗(yàn)>480h），絕緣性好（膜阻>100MΩ），膜層與基底金屬結(jié)合力強(qiáng)，并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化技術(shù)工藝處理能力強(qiáng)，可通過改變工藝參數(shù)獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要；也可通過改變或調(diào)節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色；還可采用不同的電解液對同一工件進(jìn)行多次微弧氧化處理，以獲取具有多層不同性質(zhì)的陶瓷氧化膜層。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化哪家好

微弧氧化時間對表莫粗糙度的影響

       微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度隨著氧化時間的延長近似呈線性增長。民用企業(yè)以及科研院所、國家重點(diǎn)材料實(shí)驗(yàn)室、大專院校的材料學(xué)院對鋁、鋁合金、鎂合金、鈦合金材料的微弧氧化。這是由于氧化膜的表面粗糙度與膜層的厚度有直接關(guān)系，而膜層的增厚過程是在極高的能量條件下陶瓷膜的重復(fù)擊穿過程。在氧化初期，作用在膜層上的能量較低，產(chǎn)生的熔融物顆粒較少，膜層的表面粗糙度較低；隨著時間的延長，膜層表面的能量密度逐漸增大，熔融的氧化產(chǎn)物增多，并通過微孔噴射到表面。在電解液液淬作用下，氧化物冷卻凝固，并發(fā)生多次擊穿。在這種熔融、凝固、再熔融、再凝固的過程中，產(chǎn)生的氧化物顆粒黏附在陶瓷層表面的數(shù)量增多，從而增大了膜層表面的粗糙度。另外，在成膜過程中同時存在氧化膜的溶解過程，因此，若時間足夠長，膜層在溶解過程中其表面粗糙度也會出現(xiàn)小幅度的下降。

       微弧氧化膜層生長發(fā)育時，先在基體表面產(chǎn)生放熱反應(yīng)，轉(zhuǎn)化成一層陽極處理膜。目前，微弧氧化技術(shù)主要應(yīng)用于Al、Mg、Ti等有色金屬或其合金的表面處理中。當(dāng)擴(kuò)大反映電壓時，膜層厚度會進(jìn)一步增加，再次增加電壓，厚度會隨著增加。可是當(dāng)反映電壓增加到一定水平時，膜層會因?yàn)椴豢梢猿袚?dān)該工作電壓產(chǎn)生充放電且熱擊穿，造成低溫等離子充放電。反映的高溫將使膜層產(chǎn)生熔化，基體原素因?yàn)樘幱诟谎踝匀画h(huán)境中，將產(chǎn)生化合物。另外因?yàn)槭窃阡囯姵仉娊庖褐?，熔化物將一瞬間冷凝器，在基體表面轉(zhuǎn)化成一層瓷器。陶瓷膜的轉(zhuǎn)化成，將造成工作電壓進(jìn)一步上升，膜層再度被熱擊穿，膜層厚度進(jìn)一步增加。循環(huán)反復(fù)，膜層足以生長發(fā)育。 微弧氧化生產(chǎn)商、微弧氧化電源