優(yōu)點(diǎn)：

1、化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，不需要什么特殊設(shè)備，只需要一個(gè)盛拋光液的玻璃杯和夾持試樣的夾子就可以了。

2、如果用細(xì)薄磨料片切割的試樣，切割后不需要砂紙磨光，即可直接拋光。

3、有些非導(dǎo)體材料也可以用化學(xué)拋光，非導(dǎo)體嵌鑲的試樣也可以直接拋光。

4、化學(xué)拋光也可以處理形狀比較復(fù)雜的零件。

化學(xué)拋光主要用不銹鋼、銅及銅合金等。

化學(xué)拋光對(duì)鋼鐵零件，尤其是低碳鋼有較好的拋光效果，所以對(duì)于一些機(jī)械拋光時(shí)較為困難的鋼鐵零件，可采用化學(xué)拋光。

化學(xué)拋光（銅化學(xué)拋光劑）

 機(jī)械拋光是利用機(jī)械壓力和局部摩擦產(chǎn)生高溫作用而獲得平滑的非晶型面。化學(xué)拋光與機(jī)械拋光不同，前者是利用化學(xué)溶液對(duì)金屬表面起溶解作用，而這種溶解作用是基于對(duì)金屬表面凸起部分溶解速度遠(yuǎn)比凸陷部分快的假設(shè)的基本之上的。化學(xué)拋光比機(jī)械拋光相對(duì)優(yōu)越，表面在其操作方便、設(shè)備簡(jiǎn)單、費(fèi)用低且節(jié)省電力。

化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備，可以?huà)伖庑螤顝?fù)雜的工件，可以同時(shí)拋光很多工件，?；瘜W(xué)拋光的核心問(wèn)題是拋光液的配制?；瘜W(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。

化學(xué)拋光僅僅是浸漬作業(yè)，操作簡(jiǎn)單。而電解研磨拋光需要大容量直流電，還要合理設(shè)置電流對(duì)極，控制電流電壓，操作工藝復(fù)雜，質(zhì)量控制困難，有些特殊工件還不能處理?；瘜W(xué)拋光：將金屬浸漬在各種成分組成的特殊化學(xué)溶液中，靠化學(xué)能量自然溶解金屬表面，獲得平滑光亮的表面。其中化學(xué)拋光具有節(jié)能、操作簡(jiǎn)單方便以及不受工件形狀限制等優(yōu)勢(shì)被人們所使用。不管是對(duì)不銹鋼還是銅合金,傳統(tǒng)的三大類(lèi)化學(xué)拋光液中,含有的拋光液會(huì)釋放出氮氧化物等有害氣體,對(duì)環(huán)境和操作人員的身體都有一定的影響;含有重鉻酸鹽的拋光液中含有Cr~(6 )有毒有害物質(zhì),對(duì)環(huán)境有著一定污染;含有的拋光液拋光效果不穩(wěn)定、拋光效率低等問(wèn)題。所以傳統(tǒng)的拋光液都存在各自的弊端和不足,化學(xué)拋光技術(shù)也仍需要不斷地發(fā)展。

化學(xué)拋光是在不供電情況下產(chǎn)生拋光效果，其拋光原理與利用電流作用的電解拋光在本質(zhì)上沒(méi)有太大差別。

化學(xué)拋光是不銹鋼常用的表面處理工藝，與電化學(xué)拋光工藝相比，其優(yōu)點(diǎn)是不需要直流電源和特殊夾具，可以?huà)伖庑螤顝?fù)雜的零件，生產(chǎn)率很高。

化學(xué)拋光溶液的基本組成包括腐蝕劑、氧化劑和水。腐蝕劑是主要成份，如果不銹鋼在溶液溶解，拋光便不能進(jìn)行。氧化劑和添加劑可抑制過(guò)程，使反應(yīng)朝有利于拋光的方向進(jìn)行。