應(yīng)用領(lǐng)域

Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀可用于地質(zhì)、冶金、稀土及磁材料、環(huán)境、衛(wèi)生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業(yè)、農(nóng)業(yè)、食品商檢、水質(zhì)等各領(lǐng)域及學(xué)科的樣品分析。可以快速、準(zhǔn)確地檢測從微量到常量約70種元素。

售后服務(wù)保障

售后服務(wù)工程師出自生產(chǎn)線、技術(shù)力量無法比較的

多年的國際合作經(jīng)驗(yàn)打造了完善的售后服務(wù)體系

自主知識產(chǎn)權(quán)產(chǎn)品使儀器的運(yùn)行成本特別是備件成本大幅降低

鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數(shù)

1. 光學(xué)系統(tǒng)：中階梯二維分光光學(xué)系統(tǒng)，焦距400mm

2. 譜線范圍：165nm~900nm，光學(xué)分辨率：0.007nm（200nm處）

3. 光柵規(guī)格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm

4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器，小巧有效

5. 40.68MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限

6. 自動(dòng)匹配調(diào)節(jié)

7. 全組裝式炬管，降低了維護(hù)成本

8. 計(jì)算機(jī)控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動(dòng)泵，具有快速清洗功能

9. 實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好：重復(fù)性

RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；穩(wěn)定性：RSD

≤2.0%（大于3小時(shí)）

Plasma 2000 技術(shù)特點(diǎn)

1.  優(yōu)異的光學(xué)系統(tǒng)

2.  固態(tài)有效射頻發(fā)生器，體積更加小巧

3.  流程自動(dòng)化，狀態(tài)監(jiān)控及自動(dòng)保護(hù)

4.  科研級檢測器，極高的紫外量化效率

5.  強(qiáng)大分析譜線

6.  信息直觀豐富

7.  多窗口多方法

8.  編輯功能強(qiáng)大

9.  智能譜圖標(biāo)定

10. 智能干擾矯正

想了解更多產(chǎn)品信息您可撥打公司熱線進(jìn)行咨詢！鋼研納克竭誠為您服務(wù)！