由鋼研納克承擔的國家重大科學儀器設備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應用”取得重要進展。本專項開發(fā)內(nèi)容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質(zhì)譜儀。目前二維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題，接近于商品水平的產(chǎn)品樣機將于年內(nèi)完成；ICP質(zhì)譜儀第二代研發(fā)樣機已成功組裝和調(diào)試，采集到正確的譜圖，這一突破標志著在第二代樣機上采用的自主設計的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個關鍵、難點技術已經(jīng)實現(xiàn)原理攻克。為高質(zhì)量、按期完成項目任務和本單位新產(chǎn)品開發(fā)任務奠定了堅實的基礎。

鋼研納克 Plasma2000型全譜等離子體光譜儀

2015年10月14日，中國分析測試協(xié)會組織業(yè)內(nèi)專家在北京對鋼研納克檢測技術有限公司的“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”3項成果進行了鑒定。本次鑒定專家組成員包括：清華大學張新榮、中國分析測試協(xié)會張渝英、中國分析測試協(xié)會汪正范研究員、科學儀器研究中心于科岐研究員、北分瑞利儀器有限公司章詒學、北京科技大學劉杰民。鋼研納克檢測技術有限公司賈云?？偨?jīng)理、技術中心沈學靜、項目負責人及項目骨干出席本次專家鑒定會。

本次鑒定會由鑒定專家組組長張新榮主持，項目組向專家組成員詳細匯報了成果情況，專家組審議了成果研制報告、成果查新報告、檢驗報告和用戶報告等項目鑒定資料，并觀看了儀器現(xiàn)場操作演示，進行了質(zhì)詢。在此基礎上，專家們進行了認真討論，一致同意并通過了“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”的儀器鑒定。

鑒定結論如下：

“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀” 技術指標達到：波長范圍：165~900nm；200nm處分辨率0.007nm；自主研發(fā)固態(tài)射頻發(fā)生器，功率范圍800W~1600W，連續(xù)1瓦可調(diào)，功率穩(wěn)定性優(yōu)于0.1%，具有自動匹配調(diào)諧功能；軟件一鍵點火，電路具有全自動保護功能；具有儀器參數(shù)自動優(yōu)化功能；具有激光剝蝕進樣系統(tǒng)接口，可配備有機進樣系統(tǒng)、高鹽和耐進樣系統(tǒng)，可使用有機進樣系統(tǒng)直接測試油品。具有（1）成功攻克了固態(tài)射頻發(fā)生器、高分辨二維全譜光譜系統(tǒng)等關鍵技術；（2）自主研發(fā)的高分辨率二維分光系統(tǒng)，無需切換光路，一次曝光即可獲取全部譜線數(shù)據(jù)；（3）建立了多種樣品分析的方法數(shù)據(jù)庫等創(chuàng)新點。該儀器技術指標已達到國內(nèi)同類產(chǎn)品水平，已實現(xiàn)銷售，具有良好市場前景。

鋼研納克擬負責起草ICP-AES國家標準

鋼研納克擬負責起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家標準

儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日，國家標準委決定發(fā)布通知對2014年第二批擬立項國家標準項目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家推薦標準。主管部門為中國機械工業(yè)聯(lián)合會，歸口單位為國工業(yè)過程測量和控制標準化技術會，起草單位為鋼研納克檢測技術有限公司，計劃完成時間為2016年。

《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標準將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術語與縮略語、分類、要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、標志、包裝、運輸和貯存。

據(jù)介紹，制定該標準旨在提升我國ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性，使儀器性能穩(wěn)定;通過規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準入門檻，形成具有競爭力的企業(yè)。從而縮小國產(chǎn)儀器同國外儀器的性能差距，提高國產(chǎn)ICP光譜儀的市場占有率。對ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。

項目起草單位鋼研納克檢測技術有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現(xiàn)全譜采集，該儀器是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項”成果。