可以采用滿版印刷、刷涂、滾涂或噴涂的方式，對油墨涂層的均一性要求不是很高，只要能保證涂層能夠在蝕刻時對產(chǎn)品需保護(hù)部位得到充分的保護(hù)。

此工序和制作網(wǎng)板中的涂布工序差不多，只是制作網(wǎng)板是在網(wǎng)砂上涂感光油墨，而金屬蝕刻是直接在工件表面涂布

熱風(fēng)預(yù)烘干（30-40℃，10-15分）

目的只是防止曝光時感光油墨粘住菲霖。要在暗室中進(jìn)行操作。

曝光

高壓燈、碘燈、金屬鹵素?zé)簟?

時間：二十秒左右，抽真空；根據(jù)工件的精度要求適當(dāng)調(diào)整曝光時間。精度要求越高，曝光時間要適當(dāng)縮短

顯影

對于水光油墨，可采用1%碳酸鈉水溶液或直接用清水，溫度25-30℃，手工顯影或噴射顯影。

對于油光油墨，可采用進(jìn)行手工顯影或噴射顯影。

　刻蝕機和光刻機的區(qū)別：光刻機把圖案印上去，然后刻蝕機根據(jù)印上去的圖案刻蝕掉有圖案（或者沒有圖案）的部分，留下剩余的部分?？涛g相對光刻要容易。如果把在硅晶體上的施工比成木匠活的話，光刻機的作用相當(dāng)于木匠在木料上用墨斗劃線，刻蝕機的作用相當(dāng)于木匠在木料上用鋸子、鑿子、斧子、刨子等施工。蝕刻機和光刻機性質(zhì)一樣，但精度要求是天壤之別。木匠做細(xì)活，一般到毫米就行。做芯片用的刻蝕機和光刻機，要到納米?，F(xiàn)在的手機芯片，如海思麒麟970，高通驍龍845都是臺積電的10納米技術(shù)。10納米有多小呢？打個比方。如果把一根直徑是0.05毫米頭發(fā)絲，按軸向平均剖成5000片，每片的厚度大約就是10納米?，F(xiàn)在先進(jìn)的光刻機是荷蘭的ASML公司，到10納米。臺積電買的都是它的光刻機。ASML公司實際上是美國、荷蘭、德國等多個國家技術(shù)合作的結(jié)果。因為這方面的研究難度太大，單個國家完成不了。除了ASML，世界上只有我們還在光刻機上努力研發(fā)。

金屬腐蝕前處理工藝主要有：感光蝕刻、絲網(wǎng)印刷、貼不干膠，每種工藝都有自己的優(yōu)點和缺點，蝕刻加工廠家可根據(jù)自己產(chǎn)品的實際要求，選擇相對應(yīng)的工藝。下面我們就來具體講解這三種工藝的區(qū)別：

①感光蝕刻：顧名思義，感光蝕刻采用的就是曝光顯影的前處理方法，工藝流程：涂布/噴漆→烘烤→曝光→顯影→蝕刻→退膜→成品；感光蝕刻工藝適用于精度要求較高，如：不銹鋼過濾網(wǎng)蝕刻片、篩網(wǎng)、燈飾、表盤蝕刻、五金工藝品雙面鏤空等，而傳統(tǒng)的絲網(wǎng)印刷和貼不干膠，是很難達(dá)到這種要求的，且感光蝕刻前處理菲林膠片可以自己設(shè)計，成本低，可重復(fù)使用；

②絲網(wǎng)印刷：絲網(wǎng)印刷廣泛用于不銹鋼裝飾板、電梯板，廣告標(biāo)識標(biāo)牌行業(yè)，適用于一種圖案做一批產(chǎn)品，工藝流程：絲印→晾干/烤干→蝕刻→白化→退膜→洗板烘干→覆膜→成品；絲網(wǎng)印刷蝕刻工藝較為簡單，蝕刻圖案較為簡單，精度不高，成本也是的；

③貼不干膠：廣泛用于標(biāo)識標(biāo)牌廣告行業(yè)，貼不干膠特點就是方便后期上色（噴漆），不干膠圖案可自己在電腦輸出；工藝流程：貼不干膠→蝕刻→清洗→烘干→噴漆上色→高溫烘烤→撕掉不干膠→成品；

蝕刻網(wǎng)又稱過濾網(wǎng)，采用金屬薄片通過蝕刻機腐蝕加工而成的，藍(lán)光同茂廠是一家專業(yè)生產(chǎn)金屬腐蝕機的廠家，我們可按照客戶的要求提供全套腐蝕設(shè)備和蝕刻工藝技術(shù),蝕刻網(wǎng)片主要作用于生活中的液體分離

　　蝕刻網(wǎng)的介紹：

蝕刻網(wǎng)是使用化學(xué)蝕刻液通過蝕刻機高壓噴淋到工件上，讓部分工件與蝕刻液產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)從而減少的過程，想要使一塊金屬片部分區(qū)域減少，我們就必須在不需要減少的地方做上保護(hù)層，此保護(hù)層我們通過曝光顯影的方式做上去。