真空鍍膜在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬材料），屬于物理氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中，以塑料為常見，其次，為紙張鍍膜。相對于金屬、陶瓷、木材等材料，塑料具有來源充足、性能易于調(diào)控、加方便等優(yōu)勢，因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料，大量應用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領域。

真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術,在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。多層鍍膜通常采用不同的材料重復地在透鏡表面鍍上不同厚度的膜層。多層真空鍍膜可大大提高鏡頭的透光率。真空鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。目的是希望減少光的反射，增加透光率，抗紫外線并抑低耀光、鬼影;不同顏色的真空鍍膜，也使的成像色彩平衡的不同。

真空鍍膜技術的應用時較早的。真空鍍膜技術在電子方面開始是用來制造電阻和電容元件，之后隨著半導體技術在電機學領域中的應用，又使這一技術成為晶體管制造和集成電路生產(chǎn)的必要工藝手段。近年來，隨著集成路向大規(guī)模和超大規(guī)模集成方向發(fā)展，從而又對真空鍍膜技術提出了新的要求。因而在電機學領域中又產(chǎn)生了一個新的分支一薄膜微電子學。真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。在進入鍍膜室之前，工件須在電鍍前仔細清洗。

真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術,在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。不但可以制備可控制的超薄薄膜、原子級平整度的表面、上百層的疊加膜，而且還可以控制薄膜的成分和配比。真空鍍膜技術為制造各種各樣的清潔表面提供了手段。這些薄膜的制備均為科學的研究和發(fā)展提供充分的條件。低壓化學氣相沉積