江蘇友迪激光科技有限公司主力產(chǎn)品是數(shù)字化直接成像曝光機、物理氣相沉積真空鍍膜設備、新能源自動化設備與感光油墨，三大主力產(chǎn)品已進入量產(chǎn)，2018年將加大生產(chǎn)規(guī)模，增加市場占有率，歡迎新老客戶來電咨詢！

用于pcb工藝中的曝光工序，與傳統(tǒng)的底片接觸曝光方法有所不同

與傳統(tǒng)曝光的差別

1.傳統(tǒng)曝光是通過gong燈照射底片將圖像轉(zhuǎn)移至pcb上

2.LDI是用激光掃描的方法直接將圖像在pcb上成像，圖像更精細。

曝光

曝光是指將涂有感光層的PS版置于曬版機工作臺上，放好底片，通過曝光 獲得一種潛在或可見圖像的過程。曝光是一切光化學成像方法的基本過程與主要特征。曝光，曝光模式即計算機采用自然光源的模式，通常分為多種，手動曝光、AE鎖等模式。照片的好壞與曝光有關，也就是說應該通多少的光線使CCD能夠得到清晰的圖像。下燈曝光時，光線是直接直射到下方的鏡子里然后在折射到臺面上，因此說使用品行曝光機進行曝光的時候，上燈的能量會比下燈的能量要更大一些，曝光及級數(shù)才會一樣。曝光量由通光時間（快門速度決定），通光面積（光圈大?。Q定。

DI直接成像曝光機

1、技術優(yōu)勢：

所有MIVA 位圖影像系統(tǒng)使用獨特的曝光程序，使用率半導體光源系統(tǒng)和高解析度的光學模組，此系統(tǒng)將高清晰度的影像轉(zhuǎn)移至感光基材，根據(jù)產(chǎn)品需求解析度可從3000DPI 到128000DPI，光學頭在板材上方連續(xù)移動曝光，高解析度的線性電機和光學尺可實現(xiàn)精準的位置控制。我司現(xiàn)團隊建設、制造工藝均取得豐碩成果，實現(xiàn)了標準化制造，同時培養(yǎng)了經(jīng)驗豐富的應用團隊，能與客戶充分互動，充分理解客戶的需求，使設備與客戶工藝充分結(jié)合，有興趣的客戶歡迎來咨詢。

2、耗電低：

待機時只需消耗350W，曝光時消耗2.5KW，這其中一半的能量是由吸板真空泵所消耗，故機臺本身十分節(jié)能。機臺可使用單相電源。