真空鍍膜是一種由物理方法造成塑料薄膜原材料的技術(shù)性，在真空泵房間內(nèi)原材料的分子從加溫源混凝土離析出去打進(jìn)被鍍物件的表層上。該項(xiàng)技術(shù)性用以生產(chǎn)制造光學(xué)激光鏡片，如遠(yuǎn)洋航行望遠(yuǎn)鏡鏡片等；后拓寬到別的作用塑料薄膜，游戲設(shè)備鍍鋁膜、裝飾設(shè)計(jì)鍍膜和原材料表層改性材料等，納米鍍膜生產(chǎn)商，如腕表機(jī)殼鍍仿金黃，機(jī)械設(shè)備數(shù)控刀片鍍膜，更改生產(chǎn)加工紅強(qiáng)制。真空鍍膜有三種方式，即揮發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和等離子噴涂。真空鍍膜的作用是各個(gè)方面的，這也決策了其運(yùn)用場(chǎng)所比較豐富。整體而言，真空鍍膜的關(guān)鍵作用包含授予被鍍件表層高寬比金屬質(zhì)感和鏡面玻璃實(shí)際效果，在塑料薄膜原材料上使膜層具備優(yōu)異的隔絕特性，出示出色的磁屏蔽材料和導(dǎo)電性實(shí)際效果。

       真空鍍膜技術(shù)性被稱(chēng)作發(fā)展前景的關(guān)鍵技術(shù)性之一， 鍍膜企業(yè)并已在高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的發(fā)展趨勢(shì)中展示出的行業(yè)前景。

       納米涂層低凸的表面可以吸附周?chē)臍怏w分子，形成一層穩(wěn)定的薄膜氣墊，避免了PCB表面及元器件管腳金屬材料與水分子的直接接觸。在PCB表面形成極細(xì)微的網(wǎng)狀膜層，有效降低線路板及電子元器件表面能，使沉積在PCB表面的水滴接觸角趨于大值，PCB表面呈現(xiàn)出較強(qiáng)的超疏水性能。

       這種防水的功能性涂層能使手機(jī)等電子產(chǎn)品表面層具有極強(qiáng)的疏水、憎水、防水效果，物體表面上的水珠猶如在荷葉上一樣滾落，類(lèi)似荷葉效應(yīng)，使附著在物體表面的污垢，塵土隨著水珠重力快速滑落，帶走玻璃表面的塵土和大部份污垢，不留水痕跡，達(dá)到了雙重自潔凈的效果。

       原子層沉積（ALD）是一種沉積原子級(jí)薄膜的技術(shù)，它是以一種連續(xù)脈沖的方式在樣品表面和反應(yīng)前驅(qū)體材料之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。與傳統(tǒng)的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）技術(shù)相比，沉積速率相對(duì)較慢，但是它可在高深寬比的溝槽和通孔結(jié)構(gòu)上沉積均勻薄膜。另外，在原子層沉積過(guò)程中，樣品表面上沒(méi)有物理和電學(xué)損傷，而在PECVD過(guò)程中由于離子轟擊這種損傷卻不可避免。此外，通過(guò)使用不同的反應(yīng)材料可沉積各種薄膜（氧化物，氟化物，氮化物，金屬等）。