真空電鍍?cè)?

  電鍍廠需要一個(gè)向電鍍槽供電的低壓大電流電源以及由電鍍液、待鍍零件(陰極)和陽極構(gòu)成的電解裝置。其中電鍍液成分視鍍層不同而不同，但均含有提供金屬離子的主鹽，能絡(luò)合主鹽中金屬離子形成絡(luò)合物的絡(luò)合劑，用于穩(wěn)定溶液酸堿度的緩沖劑，陽極活化劑和特殊添加物(如光亮劑、晶粒細(xì)化劑、整平劑、潤(rùn)濕劑、應(yīng)力消除劑和抑霧劑等)。

電鍍的含義：

  鍍層金屬或其他不溶性材料做陽極，待鍍的金屬制品做陰極，鍍層金屬的陽離子在金屬表面被還原形成鍍層。為排除其它陽離子的干擾，且使鍍層均勻、牢固，需用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表面性質(zhì)或尺寸.電鍍能增強(qiáng)金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高導(dǎo)電性、潤(rùn)滑性、耐熱性、和表面美觀。

真空電鍍層厚度控制方法

 1、原理：每種金屬電鍍時(shí)的厚度與電流密度和電鍍時(shí)間有關(guān)。

 2、方法：首先要計(jì)算出每種工件的面積，然后根據(jù)電鍍工藝要求確定每個(gè)工件的電流密度。例如：比亞迪的插頭射頻端口面積約為0.13dm2，鍍錫工藝要求電流密度為1.5A/dm2，因此每個(gè)工件的施鍍電流約0.20A。如每掛掛72個(gè)，則每掛的施鍍電流應(yīng)為15A。確定了電流以后，厚度就只跟時(shí)間有關(guān)了，根據(jù)電化學(xué)計(jì)算，當(dāng)電流密度為1.5A/dm2時(shí)，電鍍1u的錫鍍層約需要1.5分鐘，如要求鍍層厚度4u，則需鍍4.5分鐘。

 3、上面第2點(diǎn)提到的厚度是鍍層的平均厚度，因?yàn)楣ぜ邪纪?，因此每個(gè)地方的電流密度也不盡相同，導(dǎo)致不同部位的厚度也不一樣，工件越復(fù)雜，厚度差也越大。

鍍膜加工廠電鍍電流效率的概念在生產(chǎn)實(shí)踐中有很重要的含義，提高電流效率可以節(jié)約電能。各種電鍍工藝的電流效率有較大區(qū)別。在滿足產(chǎn)品技術(shù)要求的情況下，應(yīng)選擇電鍍工藝，以節(jié)約生產(chǎn)成本。如采用高速鍍鉻工藝，其節(jié)能效果相當(dāng)明顯，同時(shí)節(jié)約風(fēng)機(jī)電能，并減少廢氣排放等。

 降低生產(chǎn)過程中的能源消耗是許多電鍍企業(yè)應(yīng)該重視的問題，只要電鍍企業(yè)實(shí)行科學(xué)管理，綜合考慮電鍍?cè)O(shè)備和工藝的選擇，嚴(yán)格工藝和操作方面的控制，完全能達(dá)到節(jié)約能源、降低電鍍成本的目的，因此，我們要更好的使用電鍍?cè)O(shè)備讓它更好地實(shí)現(xiàn)節(jié)能效果。

pvd真空電鍍，抗腐蝕，耐腐蝕，化學(xué)性能穩(wěn)定，抗酸。手機(jī)外殼PVD鍍膜抵抗力，鍍膜外殼容易清除油漆和指紋。在強(qiáng)烈的陽光，咸的濕地和城市環(huán)境下，都不失去光澤，不氧化，不褪色，不脫落。高度耐磨損，耐刮擦，不易劃傷?？慑儾牧蠌V泛，與基體結(jié)合力強(qiáng)。

什么是PVD真空電鍍，都有那些工序

濕法工藝：1.化學(xué)浸鍍2.電鍍3.噴導(dǎo)電涂料干法工藝 1.真空蒸鍍

2.陰極濺鍍

3.離子鍍

4.燙金

5.熔融噴鍍真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點(diǎn)金屬。