磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯(lián)過程。在這種級聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運(yùn)動的足夠動量，離開靶被濺射出來。

種類

　　磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

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　　靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強(qiáng)。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運(yùn)動主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術(shù)概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內(nèi)磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴(kuò)展到基片，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場靜止靶源。

平衡軸技術(shù)（上圖中白色線框內(nèi)所示結(jié)構(gòu)）是一項(xiàng)結(jié)構(gòu)簡單并且非常實(shí)用發(fā)動機(jī)技術(shù)，它可以有效減緩整車振動，提高駕駛的舒適性。也許有的消費(fèi)者會問，為什么要在部分引擎里設(shè)計這個結(jié)構(gòu)？要搞明白這一問題首先我們需要弄清一件事--“發(fā)動機(jī)振動原理”。

   當(dāng)發(fā)動機(jī)處在工作狀態(tài)時，活塞的運(yùn)動速度非?？欤宜俣群懿痪鶆?。當(dāng)活塞位于上下止點(diǎn)位置時，其速度為零，但在上下止點(diǎn)中間位置的速度則達(dá)到。由于活塞在氣缸內(nèi)做反復(fù)的高速直線運(yùn)動，因此必然會在活塞、活塞銷和連桿上產(chǎn)生較大的慣性力。雖然連桿上的配重可以有效地平衡這些慣性力，但卻只有一部分運(yùn)動質(zhì)量參與直線運(yùn)動，另一部分參與了旋轉(zhuǎn)。因而除了上下止點(diǎn)位置外，其它慣性力并不能完全達(dá)到平衡狀態(tài)，此時的發(fā)動機(jī)便產(chǎn)生了振動。

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　在接合過程中，逐漸松開離合器踏板，壓盤在壓緊彈簧的作用下向前移動，首先消除分離間隙，并在壓盤、從動盤和飛輪工作表面上作用足夠的壓緊力；之后分離軸承在復(fù)位彈簧的作用下向后移動，產(chǎn)生自由間隙，離合器接合。

離合器的調(diào)整：

　　離合器在使用過程中，從動盤會因磨損而變薄，使自由間隙變小，最終會影響離合器的正常接合，所以離合器使用過一段時間后需要調(diào)整。離合器調(diào)整的目的是保證合適的自由間隙，離合器調(diào)整的部位和方法依具體車型而定。

   壓盤是離合器的主動部件，始終隨飛輪旋轉(zhuǎn)，通常可以通過凸臺、鍵或銷傳動，使其與飛輪一同旋轉(zhuǎn)，同時壓盤又可以相對飛輪向后移動，使離合器分離。從動盤主要由從動盤本體、摩擦片和從動盤轂組成。

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