雙面研磨拋光機(jī)的使用操作,你做對了幾點(diǎn)?

雙面研磨拋光機(jī)的使用操作，你做對了幾點(diǎn)？ 雙面研磨拋光機(jī)廣泛應(yīng)用于各種材料的雙面研磨拋光，像東研自主研發(fā)的ZS1200B-S、ZS930B-S、ZS640B-S以及ZS460B-S系列的雙面研磨拋光機(jī)研磨拋光后可達(dá)到≤0.002mm的平面誤差。 然而，在實(shí)際應(yīng)用中，有些用戶往往會忽略拋光設(shè)備的正確使用方法，導(dǎo)致設(shè)備在研磨拋光的過程中出現(xiàn)各種故障。接下來，一起隨小編看看雙面研磨拋光機(jī)的使用方法你正確了幾點(diǎn)呢？ 點(diǎn)雙面研磨拋光機(jī)的拋光率要達(dá)到，這樣便可以盡快消除產(chǎn)生的損傷層。而且粗拋和精拋這兩道工序前后需正確也不可任意省略其中一道工序。粗拋主要目的是去除磨光損傷層，精拋主要是消除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，達(dá)到拋光損傷的目的。 第二點(diǎn)要注意拋光過程中試樣磨面與拋光盤要平行并均勻輕壓在拋光盤上，同時要避免試樣飛出和因壓力太大出現(xiàn)新的劃痕。

平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)的差別

平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)的差別論 平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)都是表面處理行業(yè)常用到的設(shè)備，雖然這兩者都是適用于平面的工件，但還是有很多不同的，接下來就從以下幾個方面來闡述它們之間的差別。 首先是用途上的差別，平面研磨機(jī)主要用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。而平面拋光機(jī)是處理平面工件的塌邊現(xiàn)象，平滑，斑點(diǎn)，祛除工件表面的劃痕，完成超精密加工使工件表面光滑以達(dá)到鏡面效果。 其次是工作原理的差別，平面研磨機(jī)為精密研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于平整的研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動，修正輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦，來達(dá)到研磨拋光目的。而平面拋光機(jī)是通過發(fā)動機(jī)帶動磨盤轉(zhuǎn)動，并和在磨盤上自轉(zhuǎn)的工件產(chǎn)生摩擦，運(yùn)用摩擦產(chǎn)生切削力，將工件表面凹凸不平的地方磨平，來達(dá)到拋光目的。 很多對平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)分不清的朋友看完這篇文章應(yīng)該有所了解，明白這兩者的區(qū)別有哪些。平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)是表面處理的美化師，為我們呈現(xiàn)眾多不同的表面美觀的工件。

淺談雙面研磨機(jī)采用不同的研磨方式對平行度的影響

淺談雙面研磨機(jī)采用不同的研磨方式對平行度的影響 在雙面研磨機(jī)上有兩種不同的研磨方式：種：離散研磨，第二種：固結(jié)研磨。這兩種不同的研磨方式是市場上運(yùn)用廣的，固結(jié)研磨多用于單平面研磨，而離散研磨多用于雙平面研磨中。由于原理不同，兩種方式所呈現(xiàn)出來的優(yōu)劣勢各不相同，對工件表面精度的影響也存在差異。 離散型研磨，上下兩個研磨盤先進(jìn)行相互研磨，然后對工件進(jìn)行研磨，三者分別有不同的研磨軌跡，工件研磨終是三種運(yùn)動軌跡的結(jié)合。運(yùn)動軌跡比較復(fù)雜，不會發(fā)生重合，所以隨著時間的增加，工件的兩個表平面平行度逐步提升，終能達(dá)到非常高的平行度。 相對而言，在固結(jié)研磨中，研磨機(jī)上的磨盤和磨片表面雖然能修整到較高的平行度，但是由于工件是粘貼在磨盤上的，粘貼劑有一定的厚度和誤差，這將一定程度影響工件的平行度。而且，固結(jié)研磨的研磨軌跡是磨盤和工件兩種運(yùn)動軌跡的結(jié)合，工件外側(cè)的線速度大于內(nèi)側(cè)線速度，外側(cè)研磨量比內(nèi)側(cè)研磨量要大，隨著時間的增加，很容易導(dǎo)致工件內(nèi)凸外陷，所以工件的平行度誤差相對也較大。