以稀土拋光粉中CeO2量來劃分：

　　稀土拋光粉的主要成分是CeO2,據(jù)其CeO2量的高低可將拋光粉分為兩大類：一類是CeO2含量高的價(jià)高質(zhì)優(yōu)的高拋光粉，一般CeO2/TREO≥80%,另一類是CeO2含量低的廉價(jià)的低拋光粉，其含量在50%左右，或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11組成。

對(duì)于高拋光粉來講，氧化的品位越高，拋光能力越大，使用壽命也增加，特別是硬質(zhì)玻璃長時(shí)間循環(huán)拋光時(shí)（石英、光學(xué)鏡頭等），以使用高品位的拋光粉為宜。低拋光粉一般含有50%左右的CeO2,其余50%為La2O3?SO3,Nd2O3?SO3,Pr6O11?SO3等堿性鹽或LaOF、NdOF、PrOF等堿性氟化物，此類拋光粉特點(diǎn)是成本低及初始拋光能力與高拋光粉比幾乎沒有兩樣，因而廣泛用于平板玻璃、顯像管玻璃、眼鏡片等的玻璃拋光，但使用壽命難免要比高拋光粉低。






因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的拋光粉（包括稀土拋光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級(jí)稀土拋光粉，由于在液晶顯示器與電腦光盤領(lǐng)域的應(yīng)用逐漸受到重視，產(chǎn)量逐年提高。納米級(jí)稀土拋光粉目前也已經(jīng)問世，隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，其應(yīng)用前景不可預(yù)測，但目前其市場份額還很小，屬于研發(fā)階段。

　中系稀土拋光粉，主要適用于光學(xué)儀器的中等精度中小球面鏡頭的高速拋光。該拋光粉與高粉比較，可使拋光粉的液體濃度降低11%,拋光速率提高35%,制品的光潔度可提高一級(jí)，拋光粉的使用壽命可提高30%.目前國內(nèi)使用這種拋光粉的用量尚少，有待于今后繼續(xù)開發(fā)新用途。

　　低系稀土拋光粉，如771型適用于光學(xué)眼鏡片及金屬制品的高速拋光；797型和C-1型適用于電視機(jī)顯象管、眼鏡片和平板玻璃等的拋光；H-500型和877型適用于電視機(jī)顯象管的拋光。此外，其它拋光粉用于對(duì)光學(xué)儀器，攝像機(jī)和照像機(jī)鏡頭等的拋光，這類拋光粉國內(nèi)用量，約占國內(nèi)總用量85%以上。