無(wú)電解鍍鎳鍍層為什么會(huì)出現(xiàn)問(wèn)題

我們都知道如果想要很好的利用超無(wú)電解鍍鎳，不僅需要產(chǎn)品的質(zhì)量一定要過(guò)關(guān)，還要特別注意無(wú)電解鍍鎳產(chǎn)品的相關(guān)事項(xiàng)，那么大家知道無(wú)電解鍍鎳鍍層為什么會(huì)出現(xiàn)問(wèn)題？下面就有我們的專(zhuān)業(yè)人士為大家詳細(xì)介紹一下，希望對(duì)大家有所幫助！

一、熱處理工藝不當(dāng)

在機(jī)械加工過(guò)程中，零部件表面粘附的防銹油脂、切削液、機(jī)械油、潤(rùn)滑油脂、磨削液、脫模劑等與塵埃、打磨粉塵混粘在一起，形成較厚的污垢。若熱處理前未將以上污垢除去，則其淬火燒結(jié)成頑固的固體油垢后除油除銹很難清洗干凈，施鍍時(shí)氣泡附著其上使鍍層形成氣體滯留型針z孔。

光亮鍍鎳液液的PH值應(yīng)該控制在怎樣的范圍內(nèi)為好?如何控制?

光亮鍍鎳的溶液呈弱酸性，陰極電流效率小于l00%，因此在電鍍過(guò)程中，陰極上除了鎳的沉積外，還有少量的氫氣析出，氫氣的析出影響到溶液的氫離子濃度，而pH值的控制范圍對(duì)鍍層質(zhì)量是至關(guān)重要的一個(gè)參數(shù)。

在各種光亮鍍鎳的配方中，隨著主鹽含量的不同，相應(yīng)鍍液的pH值控制范圍應(yīng)當(dāng)也不一樣。

其一般規(guī)律為：硫l酸鎳含量高時(shí)，pH值允許偏低;硫l酸鎳含量低時(shí)，pH值應(yīng)偏高。pH值總的變化范圍應(yīng)控制在3.8～5.5為宜，如果pH值過(guò)低，陰極電流效率降低，鍍層脆性大，甚至得不到鍍層，只有氫氣的析出;反之，pH值過(guò)高，溶液渾濁，沉積出來(lái)的鍍層發(fā)霧，有毛刺，有嚴(yán)重脆性。

由于大多數(shù)的光亮劑至今還沒(méi)有適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)分析方法，因此對(duì)光亮劑的控制目前只憑經(jīng)驗(yàn)，但經(jīng)驗(yàn)規(guī)律的應(yīng)用有著局限性，所以對(duì)光亮劑的控制z好采用小型鍍槽試。

其中霍爾槽試驗(yàn)是一種較為有效的小型鍍槽試驗(yàn)，因?yàn)橐淮位魻柌墼囼?yàn)在其陰極樣板上可以反映出相當(dāng)寬的電流密度范圍里鍍層質(zhì)量的情況，而且光亮劑含量的多少往往也能在陰極板上反映出不同的現(xiàn)象，為排除故障提供可靠的依據(jù)。