潔凈室中的溫濕度控制潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定，但在滿(mǎn)足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。所以，前聯(lián)邦德國(guó)有人稱(chēng)單向流潔凈室的氣流為“活塞流”、“平推流”前蘇聯(lián)稱(chēng)之為“被擠壓的弱空氣射流”。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來(lái)越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線(xiàn)性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車(chē)間，這種車(chē)間不宜超過(guò)25度。濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。

氣壓規(guī)定對(duì)于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應(yīng)符合以下原則：1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。壓力差的維持一般應(yīng)符合以下原則：1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。2.潔凈度級(jí)別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級(jí)別低的空間的壓力。壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個(gè)新風(fēng)量要能補(bǔ)償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風(fēng)量通過(guò)潔凈室的各種縫隙時(shí)的阻力。

根據(jù)潔凈室凈化工程擬生產(chǎn)的產(chǎn)品的門(mén)類(lèi)、品種或使用情況，確定所設(shè)計(jì)潔凈室凈化工程的控制對(duì)象及技術(shù)要求。面不同產(chǎn)品或用途的生物潔凈室凈化工程，對(duì)空氣潔凈度等級(jí)、空氣中含有的微生物種類(lèi)和濃度、壓差等的要求是不問(wèn)的。如對(duì)生物潔凈室凈化工程，其控制對(duì)象是空氣中的塵粒、微生物；面不同產(chǎn)品或用途的生物潔凈室凈化工程，對(duì)空氣潔凈度等級(jí)、空氣中含有的微生物種類(lèi)和濃度、壓差等的要求是不問(wèn)的。又如集成電路生產(chǎn)用潔凈室凈化工程．其控制對(duì)象主要是空氣中的塵粒；按集成電路的特征尺寸、集成度的不同，對(duì)空氣潔凈度等級(jí)、防微振、高純物質(zhì)等的要求是不同的，應(yīng)披具體工廠的產(chǎn)品品種確定。

凈化區(qū)內(nèi)搬運(yùn)物料及機(jī)具搬運(yùn)應(yīng)輕拿輕放，防止碰撞壁板或頂板。(3)混合照明這是指工作面上的照度由一般照明和局部照明合成的照明，其中一般照明的照度按《潔凈廠房設(shè)計(jì)規(guī)范》應(yīng)占總照度的10%—15%，但不低干150LX。工具或材料搬運(yùn)時(shí)必須完全離開(kāi)地面，不得在地面上拖行。管道等長(zhǎng)度≥1.5米的材料必須由兩人進(jìn)行搬運(yùn)，一人拿一端，不得一人獨(dú)自搬運(yùn)；凈化區(qū)使用的腳手架必須清掃干凈、踏板必須用保鮮膜包裹好，每個(gè)腳手架上必須配備一套清掃工具。所有設(shè)備（包括腳手架、推車(chē)等）車(chē)輪必須是橡膠輪子，而且輪子必須用透明膠帶纏緊；不得在凈化室進(jìn)行任何電焊、鉆孔、切割、打磨等加工作業(yè)，不得已時(shí)需向業(yè)主申請(qǐng)并做好防護(hù)措施

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