氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)示漏氣體的要求及選擇：無(wú)害，不能對(duì)人體或環(huán)境造成傷害;質(zhì)量輕，惰性氣體，穿透能力強(qiáng)，能穿透微小細(xì)縫;化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，不會(huì)引起化學(xué)反應(yīng);檢漏時(shí)噴在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍，該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間，即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間，當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大，該間隔時(shí)間也越長(zhǎng)。檢漏儀高壓強(qiáng)下檢漏：檢漏口壓強(qiáng)可高達(dá)數(shù)百帕左右，對(duì)檢測(cè)大系統(tǒng)和有大漏的工件很有益。

一般檢漏都采用氦氣(He)作為示漏氣體，但也有用氫氣(H)作為示漏氣體的，考慮到它的化學(xué)性質(zhì)及危險(xiǎn)性，在應(yīng)用中較少使用，所以實(shí)際大部分檢漏使用的都是氦氣。主要配置：檢漏儀分子泵。機(jī)械泵或者干泵。定制檢漏儀電磁閥。內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)漏口。 放大器。質(zhì)譜模塊。筆者根據(jù)實(shí)測(cè)經(jīng)驗(yàn)，兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s左右，即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒(méi)有反應(yīng),則可進(jìn)行第二次噴氦。

氦氣檢漏儀可同時(shí)檢測(cè)多工件，并能按照需求自動(dòng)判斷出具體的有漏工件；專(zhuān)業(yè)定制的的密封接頭，穩(wěn)定可靠，減少誤判。氦質(zhì)譜檢漏儀主要技術(shù)指標(biāo)：1. 小可檢漏率：5×10-12Pa·m3/s。2. 漏率顯圍：1×10-3—1×10-12Pa·m3/s氦氣檢漏儀特有的清氦系統(tǒng)，快速有效地清除超標(biāo)的氦本底，保證檢測(cè)的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性；實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)氦氣壓力和濃度，保證了工件檢測(cè)的精度；

氦質(zhì)譜檢漏儀設(shè)備內(nèi)芯制造借鑒國(guó)外先進(jìn)技術(shù)，具有靈敏度高，反應(yīng)快，開(kāi)機(jī)時(shí)間短等特點(diǎn)，是一款液晶觸摸彩屏顯示的全自動(dòng)氦質(zhì)譜檢漏儀。氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)示漏氣體的要求及選擇：無(wú)害，不能對(duì)人體或環(huán)境造成傷害;質(zhì)量輕，惰性氣體，穿透能力強(qiáng)，能穿透微小細(xì)縫;化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，不會(huì)引起化學(xué)反應(yīng);檢漏儀高壓強(qiáng)下檢漏：檢漏口壓強(qiáng)可高達(dá)數(shù)百帕左右，對(duì)檢測(cè)大系統(tǒng)和有大漏的工件很有益。