光學(xué)鍍膜機(jī)電子槍打火問(wèn)題是怎么引起的,該如何減少次數(shù)呢?

很多人對(duì)光學(xué)鍍膜機(jī)電子槍打火問(wèn)題很疑惑，不知道是什么原因產(chǎn)生的，也不知道該如何減少這種情況的發(fā)生，今天至成真空小編為大家講解一下光學(xué)鍍膜機(jī)電子槍打火問(wèn)題是怎么引起的？

電子槍在蒸鍍時(shí)，由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發(fā)材料的蒸汽發(fā)生碰撞產(chǎn)生的離子轟擊帶負(fù)電高壓電極及其引線，即產(chǎn)生打火。另外，若這些帶負(fù)高壓電的部分有塵粒等雜物，會(huì)使該處電場(chǎng)集中了容易打火。故電子束蒸鍍?cè)O(shè)備的高壓電源都附有高壓自動(dòng)滅弧復(fù)位裝置，在打火非常嚴(yán)重時(shí)才會(huì)自動(dòng)切斷高壓，然后又自動(dòng)恢復(fù)，切斷與恢復(fù)的時(shí)間愈短，愈不會(huì)影響蒸鍍工藝。

那么，在安裝和使用的過(guò)程中，該如何才能減少打火次數(shù)。首先、高壓引線應(yīng)盡量短，并用接地良好的不銹鋼板屏蔽住，不要追求美觀把引線彎來(lái)彎去。然后，槍頭金屬件和引線定期用細(xì)砂紙打光，然后清洗干凈。上螺釘?shù)穆菘锥ㄆ谟媒z錐攻螺孔，以便螺釘上下方便并保證壓的很緊。接著，所有陶瓷件污染后應(yīng)予更換。電子槍體應(yīng)可靠接地。對(duì)放氣量大的材料應(yīng)充分預(yù)熱以徹底除氣。蒸鍍時(shí)功率要合適，不可過(guò)高造成材料飛濺。高壓饋線與高壓絕緣子金屬件的接線一定要可靠并經(jīng)常檢查，以免增大接觸電阻造成發(fā)熱而燒壞。蒸發(fā)檔板應(yīng)高于蒸發(fā)源70mm.1

多弧離子真空鍍膜機(jī)的由來(lái)

我國(guó)在真空鍍膜行業(yè)，目前更多的應(yīng)用都集中在裝飾方面，對(duì)能有效地提高關(guān)鍵部件使用壽命機(jī)械功能薄膜的制備設(shè)備、工藝及應(yīng)用研究方面還遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后于國(guó)外先進(jìn)水平。同時(shí)，裝飾鍍方面也逐漸向耐磨和裝飾雙重功能的方向發(fā)展，之前的離子鍍膜機(jī)已體現(xiàn)出不能滿足裝飾鍍要求的問(wèn)題。本技術(shù)的研發(fā)成功，將打破國(guó)內(nèi)機(jī)械功能耐磨減摩薄膜完全依靠國(guó)外技術(shù)的被動(dòng)局面；對(duì)提高我國(guó)裝備制造業(yè)的技術(shù)水平和真空離子鍍的技術(shù)發(fā)展都是一個(gè)非常好的作用。另外，將制備的耐磨減摩薄膜應(yīng)用于其它關(guān)鍵部件中，起到了非常好的節(jié)約能源和提率的作用，可替代部分原來(lái)電鍍的工藝，對(duì)環(huán)境保護(hù)起到很好的作用。

目前，國(guó)際上機(jī)械功能硬質(zhì)薄膜（特別是刀具用膜層）大多采用陰極電弧沉積技術(shù)，但陰極電弧沉積存在的主要技術(shù)問(wèn)題是所制備的膜層表面不夠光潔，有較多的顆粒，影響應(yīng)用性能；特別是國(guó)內(nèi)制造的陰極電弧沉積設(shè)備顆粒問(wèn)題尤為嚴(yán)重。在此技術(shù)基礎(chǔ)上引入磁過(guò)濾技術(shù)，雖可解決表面沉積的顆粒問(wèn)題，但沉積效率只有原來(lái)的1/10左右，并且沉積面積小，從而使生產(chǎn)周期長(zhǎng)，制造成本高，不適合大批量鍍膜生產(chǎn)應(yīng)用。而磁控濺射技術(shù)所制備的膜層表面光潔、細(xì)膩，沉積速率適中，能均勻地大面積沉積薄膜。但磁控濺射技術(shù)也存在離化率低（一般在10％），所制備的膜層在硬度、耐磨性及結(jié)合力上不如陰極電弧技術(shù)所制備的膜層；在進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)性鍍膜（如TiN、TiO2）時(shí)，由于金屬粒子的離化率低、反應(yīng)活性差，必須過(guò)量通入反應(yīng)性氣體，造成磁控靶面的毒化（化學(xué)反應(yīng)），引起蒸發(fā)速率急劇降低等一系列雪崩式后果，使得磁控濺射反應(yīng)鍍膜存在著不穩(wěn)定性和不可控性。

PVD技術(shù)都有那些分類呢

？PVD真空鍍膜機(jī)物理氣相沉積是一種物理氣相反應(yīng)生長(zhǎng)法，沉積過(guò)程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過(guò)“蒸發(fā)或?yàn)R射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過(guò)一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。那么這兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮；PVD鍍膜不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。

在現(xiàn)階段，PVD鍍膜是不能取代化學(xué)電鍍的，并且除了在不銹鋼材料表面可直接進(jìn)行PVD鍍膜外，在很多其他材料（如鋅合金、銅、鐵等）的工件上進(jìn)行PVD鍍膜前，都需要先對(duì)它們進(jìn)行化學(xué)電鍍Cr(鉻)。PVD鍍膜主要應(yīng)用在一些比較五金制品上，對(duì)那些價(jià)格較低的五金制品通常也只是進(jìn)行化學(xué)電鍍而不做PVD鍍膜。

真空磁控濺射鍍膜機(jī)工藝,及人員技能選擇

很多人聽(tīng)說(shuō)過(guò)真空磁控濺射鍍膜工藝，大概只知道它的做用就是鍍膜，但是大家卻不知道，它的鍍膜原理以及流程，為什么它能鍍出精美的膜，包括后期這方面的工作人員該如何選擇，或者是規(guī)劃自己后期的發(fā)展，各人認(rèn)為，只有你對(duì)這個(gè)行業(yè)有詳細(xì)的了解，這樣你才能做出正確的選擇。

首先給大家講解一下真空磁控濺射鍍膜機(jī)鍍膜流程，讓大家知道，那些漂亮的膜是怎么鍍出來(lái)的。一般在在鍍膜前，機(jī)器都要先抽真空，并且抽真空過(guò)程中要加熱，加熱的溫度取決于你工件的材質(zhì)3。當(dāng)真空度達(dá)到高真空，一般在0.005Pa左右時(shí)，開(kāi)始Ar離子轟擊清洗，用電弧靶主弧轟擊清洗，接著用用用電弧和磁控靶混合打底和用磁控靶打底，然后通入要鍍的物質(zhì)，后降溫出爐就可以了，整個(gè)鍍膜的過(guò)程就完成了，很多多人，覺(jué)的鍍膜工藝很繁瑣，技術(shù)含量很高。其實(shí)不然，只要你弄鍍膜流程和鍍膜過(guò)程的應(yīng)該注意的細(xì)節(jié)，然后精力投入進(jìn)去，其實(shí)還是非常好上手的。很過(guò)剛?cè)腴T的新人，一腔熱血，想要進(jìn)入鍍膜行業(yè)，想要學(xué)習(xí)技術(shù)，但是卻沒(méi)有了解他到底想要學(xué)習(xí)什么技術(shù)。是鍍膜工藝技術(shù)，鍍膜設(shè)備方面的技術(shù)，很多新人對(duì)此行業(yè)了解不深，把這兩者混為一談，只是這兩者是有很大區(qū)別的，尤其是剛進(jìn)入行業(yè)的新人，要切記及注意。