連續(xù)式磁控濺射鍍膜設(shè)備

該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET、PC等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。至成鍍膜機廠家可按用戶要求提供設(shè)計，提供全套設(shè)備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務(wù)。

該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。至成鍍膜機廠家可按用戶要求提供設(shè)計，提供全套鍍膜設(shè)備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務(wù)。

優(yōu)勢：設(shè)備模組化設(shè)計，易拆卸，維修，保養(yǎng)；高靶材利用率；高生產(chǎn)力及產(chǎn)品良率；環(huán)保制程無污染及環(huán)保問題；高客制化兼顧產(chǎn)品規(guī)格與低投資成本需求；整廠輸出：單片式玻璃觸控面板整廠輸出；CIGS整廠輸出；整廠輸出；卷對卷ITO膜整廠輸出；太陽能整廠輸出；電致變色整廠輸出；

多弧離子真空磁控濺射鍍膜機工作原理蒸發(fā)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)與工作原理介紹

多弧離子鍍膜機是一種、無害、無污染的離子鍍膜設(shè)備，具有堆積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡略、本錢低、出產(chǎn)量大的長處。

真空多弧離子鍍膜機偏壓電源的作業(yè)原理

離子鍍膜正本是離子濺射鍍膜，關(guān)于導(dǎo)電靶材，運用直流偏壓電源；非導(dǎo)電靶材，運用脈沖偏壓電源。有的多弧離子鍍膜機，可能還需求直流電弧電源或脈沖電弧電源

偏壓電源正本即是在陰極和樣品所在位置的陽極之間構(gòu)成偏壓電場，通常是陰極加負高壓。陰極外表的自由電子在電場效果下定向加快發(fā)射，發(fā)射電子炮擊氣體分子，使之電離，并且氣體被驅(qū)出的電子被電場加快，持續(xù)電離別的氣體分子，接二連三，構(gòu)成雪崩效應(yīng)，氣體被擊穿，構(gòu)成穩(wěn)定的電離電流。此刻離子也被加快，炮擊靶材，將靶材中的原子驅(qū)除出外表，并堆積在樣品外表。

真空電鍍設(shè)備的監(jiān)控方法

真空電鍍設(shè)備的監(jiān)控方法 1、目視監(jiān)控：使用眼睛監(jiān)控，因為薄膜在生長的過程中，由于干涉現(xiàn)象會有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準確，需要依靠經(jīng)驗。 2、極值監(jiān)控法：當膜厚度增加的時候其反射率和穿透率會跟著起變化，當反射率或穿透率走到極值點的時候，就可以知道鍍膜之光學(xué)厚度ND是監(jiān)控波長（入）的四分之一的整倍數(shù)。但是極值的方法誤差比較大，因為當反射率或者透過率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長處。 3.定值監(jiān)控法：此方法利用停鍍點不在監(jiān)控波長四分之一波位，然后由計算機計算在波長一時總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點。

適合于真空對潔凈環(huán)境的要求

適合于真空對潔凈環(huán)境的要求 工業(yè)環(huán)境中的粉塵是以粉狀體、眼無題、粉塵來區(qū)分的。粉狀體是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態(tài)的物質(zhì)。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合，而顆粒是指能夠一個一個計數(shù)的微小物質(zhì)。煙霧體是以固體或液體的微小顆粒呈浮狀態(tài)存在于氣體中的物質(zhì)體系。物質(zhì)無論是固體還是液體，凡是呈顆粒狀態(tài)均可統(tǒng)稱為塵粒。以塵粒直徑的大小來確定空氣清潔度的標準，從而定制出潔凈室的等級。不僅適合于有潔凈要求的工業(yè)部門，也適合于真空對潔凈環(huán)境的要求。