但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在，具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。

化學組分上的均勻性：

就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。

行業(yè)內通常所說的“IP”（ion plating）離子鍍膜，是因為在PVD技術中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用，為了強調離子的作 用，而統(tǒng)稱為離子鍍膜。真空鍍膜是一種產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術用于生產激光唱片（光盤）上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。離子源,需要根據機臺配置選用耗材三,設備日常維修保養(yǎng)部件需要根據機臺型號選用四,光學鍍膜機臺品牌分玻璃機和塑膠機配置不一樣,尺寸可以選擇,900mm,1100mm,1300mm,1350mm,。

為什么真空鍍膜的鍍鋁不導電？因為鍍膜總共有三層，外層的UV光油經UV照射后起到固化耐磨絕緣的作用，但是一旦這層膜被破壞就導電了。

真空鍍膜技術是近年發(fā)展起來的一項新技術。它的原理是金屬固體(如鋁線等)在高真空狀態(tài)下受熱氣化，再以分子或原子形態(tài)沉積在基材表面，從而在鍍件表面形成一層薄薄的金屬膜。由于金屬氣化后均勻地分布于鍍膜機腔體內，所以，通常情況下，鍍件表面形成的金屬膜十分均勻。它是在上面兩種真空鍍膜技術基礎上發(fā)展而來的，因此兼有兩者的工藝特點。

真空電鍍加工五金真空鍍膜公司

真空電鍍加工怎么進行環(huán)保呢？

一、真空鍍膜加工的鍍層厚度均勻致密。 無論工件如何復雜，均可在工件上得到均一鍍層，其鍍層精度可達±1微米。

二、各種基體材料均可處理，包括金屬、半導體及非金屬。

三、與金屬件結合強度高 一般強度在350-450MPa自然狀態(tài)下不起皮、不脫落。即可保持金屬基件原有的機械性能，又 增加了鍍件的耐磨性、耐腐蝕性。

四、耐腐蝕性強 金屬件經表面處理后，由于表面形成了一種非晶態(tài)鍍膜層，因為無晶界，所以抗腐蝕性能 優(yōu)良。例如：在5%HCI中，含P質量分數(shù)為10.9%鎳磷合金鍍層的耐腐蝕層比ICr18Ni9Ti不銹鋼還高出 10

10%HCI中則高出20倍以上。