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PVD鍍膜層的厚度
聚涂層的厚度為微米級,較薄,一般為0.1μm~5μm,其中裝飾涂層的厚度一般為0.1μm~1μm,可以在幾乎不影響工件原有尺寸的情況下提高工件表面的各種物理化學性能,保持工件尺寸基本不變,鍍后無需再加工。
PVD中文意味著物理氣相沉積,是指在真空條件下,用物理方法將材料沉積在鍍膜工件上的薄膜制備技術。PVD鍍膜技術的應用主要分為裝飾鍍膜和工具鍍膜.
手機塑膠真空鍍膜工藝
動生產(chǎn)線
產(chǎn)品1,為NOKIA手機按鍵.
素材:PC透明料.
產(chǎn)品成型工藝流程:
PC料--> 表面處理--> 噴涂UV底油漆UV--> IR流平--> UV曝光--> 真空鍍膜--> 噴涂UV中涂UV--> IR流平--> UV曝光--> 鐳雕圖案--> 噴涂UV面漆UV--> IR流平--> UV曝光--> 完成.
自動生產(chǎn)線
樣品2.MOTO藍牙耳機,黑色
素材:PC料
產(chǎn)品工藝流程基本同樣品1,此處不一樣的地方為,中涂UV#VMTC120D加入了色精進行染色.再者樣品2為不導電電鍍,采用磁控濺鍍,是一種新型的披覆工藝,主要出乎以下考量:涂層不導電,保證了電子產(chǎn)品-耳機,能夠正常接受由手機發(fā)出的無線電信號.
真空鍍膜加工法是在高寬比真空規(guī)范下加溫金屬,使其熔化、蒸發(fā),制冷后在塑膠表面產(chǎn)生金屬塑料薄膜的方法。常見的金屬是鋁等低溶點金屬。加溫金屬的方法:有運用電阻器形成的動力,也是運用離子束的。
在對塑料制品實行真空鍍膜加工時,以便保證金屬制冷時需釋放出的發(fā)熱量不使環(huán)氧樹脂形變,必須對蒸鍍時間打開調(diào)理。除此之外,溶點、熔點太高的金屬或鋁合金不適宜蒸鍍。置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空房間內(nèi),選用一定方法加溫待鍍原材料,使金屬蒸發(fā)或升化,金屬蒸氣碰到冷的塑料制品表面匯集成金屬塑料薄膜。