但在一個操作間，機器以及機器周圍走動的人員，會對氣流形成障礙。障礙物可以使單向流變成紊流，從而在障礙物周圍形成氣流團。人員的活動也可以使單向流變成紊流。在這些紊流中，由于風(fēng)速較低，空氣稀釋程度較小，從而使得污染濃度較高。因此，必須將風(fēng)速保持在0.3米/秒至0.5米/秒（60英尺/分鐘至100英尺/分鐘）的范圍里，以便使中斷的單向流能快速恢復(fù)，充分稀釋障礙物周圍紊流區(qū)的污染。用風(fēng)速可以正確地表示出單向流，因為風(fēng)速越高室內(nèi)就越潔凈。而每小時換氣次數(shù)與房間的體積有關(guān)，如吊頂?shù)母叩?，因此不適合用來表示單向流。這類方案一般可以適用于潔凈度為千級、萬級、十萬級等的凈化無塵廠房。單向流室內(nèi)的送風(fēng)量是紊流室的很多倍（10到100倍）。

潔凈室中的溫濕度控制潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。為滿足凈化實驗室溫濕度要求，宜配備機械空調(diào)通風(fēng)系統(tǒng)，有特殊要求的可增設(shè)設(shè)計要求，如增設(shè)凈化要求并按凈化要求進行送回（排）風(fēng)系統(tǒng)設(shè)計等。對于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。

凈化區(qū)內(nèi)搬運物料及機具搬運應(yīng)輕拿輕放，防止碰撞壁板或頂板。工具或材料搬運時必須完全離開地面，不得在地面上拖行。管道等長度≥1.5米的材料必須由兩人進行搬運，一人拿一端，不得一人獨自搬運；凈化區(qū)使用的腳手架必須清掃干凈、踏板必須用保鮮膜包裹好，每個腳手架上必須配備一套清掃工具。所有設(shè)備（包括腳手架、推車等）車輪必須是橡膠輪子，而且輪子必須用透明膠帶纏緊；1、組合式空氣處理機組 冷水機組 送風(fēng)口這是一個最傳統(tǒng)的凈化空調(diào)系統(tǒng)的設(shè)計方案。不得在凈化室進行任何電焊、鉆孔、切割、打磨等加工作業(yè)，不得已時需向業(yè)主申請并做好防護措施

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