真空鍍膜設(shè)備維護和保養(yǎng)方法：

（1）真空鍍膜設(shè)備每完成200個鍍膜程序以上，應(yīng)清潔工作室一次。

方法是：用（NaOH）飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁，（注意人體皮膚不可以直接接觸溶液，以免灼傷）目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾清洗精抽閥內(nèi)的污垢。

（2）當粗抽泵（滑閥泵，旋片泵）連續(xù)工作一個月（雨季減半），需更換新油。

方法是：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數(shù)秒，使泵內(nèi)的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，加入新油至額定量（油視鏡觀察）。連續(xù)使用半年以上，換油時應(yīng)將油蓋打開，用布擦干凈箱內(nèi)污垢。

五金裝飾膜離子鍍膜機有哪些特點

該設(shè)備是一種、無污染的離子鍍膜設(shè)備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點。五金裝飾膜離子鍍膜機是一種、無污染的離子鍍膜設(shè)備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點。

真空電弧離子鍍膜的原理是基于冷陰極自持弧光放電等離子體蒸發(fā)、電離鍍料，結(jié)合脈沖偏壓技術(shù)，提高沉積粒子能量和活性，增強膜層的各項性能。它不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面上進行鍍膜；可以鍍金屬膜，氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層超硬膜、多元化合物膜，還可以鍍氮化鈦摻金膜等。電弧離子鍍膜廣泛應(yīng)用于工具、模具的超硬涂層，汽車輪轂、高爾夫球具、鐘表、酒店用品、衛(wèi)浴潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品、陶瓷和玻璃等的裝飾涂層等領(lǐng)域。

至成鍍膜機廠家著力改進圓形電弧蒸發(fā)源，同時著力開發(fā)矩形平面電弧蒸發(fā)源，均已裝配新機。

真空鍍膜機技術(shù)中的磁控濺射鍍膜優(yōu)勢所在鍍膜技能商品技能特色

據(jù)調(diào)查顯示，對于沉積速率，真空鍍膜機技術(shù)中的磁控濺射鍍膜運用效果很好。有項研究就是對平衡磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜進行各種對比。在這兩者之前，對其成膜的沉積速率的不同作出了實驗研究。

在實驗中，通過是平衡磁控濺射的基礎(chǔ)上增加附加的線圈來控制磁場的變化，形成非平衡磁控濺射條件，這種附加線圈可以改變磁場電流，調(diào)整在整個靶材表面所存在的磁場狀況，從而使其產(chǎn)生的離子密度更高，在研究數(shù)據(jù)中顯示，當離子密度提高，成膜的沉積速率也相應(yīng)提高，通過這種調(diào)整電流的方式，可以提高磁控濺射鍍膜時的沉積速率。

把靶材與基底之間的距離改變，當距離越大，沉積速率就越低，相反就越高，所以要設(shè)定好靶材與基底的距離，距離大了，離子隨著磁場所產(chǎn)生的電流沉積到基底上的時間就長了，在此時間內(nèi)受到真空鍍膜設(shè)備中的氣體散射的影響就多了，離子密度相對降低，距離短就受影響少，離子密度就高，但不是越短越好的，太短距離就相對減少成膜的面積，所以這個距離需要拿捏好，可以提高磁控濺射鍍膜時的沉積速率。從上述的表述我們可以知道，磁控濺射鍍膜機的技術(shù)還是十分有效的

真空鍍膜檢漏有哪3個過程?

真空鍍膜檢漏有哪3個過程？ (1)充壓過程是將被檢件在充有高壓示漏氣體的容器內(nèi)存放一定時間，如被檢件有漏孔，示漏氣體就可以通過漏孔進入被檢件的內(nèi)部，并且將隨浸泡時間的增加和充氣壓力的，被檢件內(nèi)部示漏氣體的分壓力也必然會逐漸升高。(2)凈化過程是采用干燥氮氣流或干燥空氣流在充壓容器外部或在其內(nèi)部噴吹被檢件。如不具備氣源時也可使被檢件靜置，以便去除吸附在被檢件外表面上的示漏氣體。在凈化過程中，因為有一部分氣體必然會從被檢件內(nèi)部經(jīng)漏孔流失，從而導(dǎo)致被檢件內(nèi)部示漏氣體的分壓力逐漸下降，而且凈化時間越長，示漏氣體的分壓降就越大。(3)檢漏過程則是將凈化后的被檢件放入真空室內(nèi)，將檢漏儀與真空室相連接后進行檢漏。抽真空后由于壓差作用，示漏氣體即可通過漏孔從被檢件內(nèi)部流出，然后再經(jīng)過真空室進入檢漏儀，按檢漏儀的輸出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。