利用新納米技術(shù)開發(fā)的功能金屬氧化物薄膜材料（Functional Thin-Film metal-Oxides Materials，具有優(yōu)良的電磁傳導(dǎo)、物理化學(xué)和機(jī)械性能，可廣泛應(yīng)用于節(jié)能照明、顯示電子、化合物檢測(cè)、柔性透明和氣體傳感等領(lǐng)域，具有開啟后硅基半導(dǎo)體電子新時(shí)代的巨大潛力。歐盟第七研發(fā)框架計(jì)劃（FP7）提供980萬歐元資助，總研發(fā)投入1340萬歐元，由歐盟8個(gè)成員國德國（總協(xié)調(diào)）、英國、意大利、比利時(shí)、荷蘭、葡萄牙、希臘和斯洛文尼亞，微納米電子工業(yè)界聯(lián)合科技界組成的歐盟微納米電子技術(shù)平臺(tái)（ORAMA ETP）。(4)離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。在建立緊密合作型研發(fā)創(chuàng)新公私伙伴關(guān)系（PPP）的同時(shí)，將長期致力于功能金屬氧化物薄膜材料的研制開發(fā)及商業(yè)化推廣應(yīng)用?！?

鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。Parylene又是一種透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料，Parylene涂敷稀土磁性材料的技術(shù)和產(chǎn)品，目前國外小型釹鐵硼稀土磁性材料都已采用Parylene進(jìn)行防護(hù)。光學(xué)鍍膜是在光學(xué)干涉原理，在可見光和紅外線波段范圍內(nèi)，使反射率在78-98%之間，以達(dá)到透光率，光學(xué)鍍膜技術(shù)一直是光學(xué)領(lǐng)域中不可忽略的重要基礎(chǔ)技術(shù)。

在我們的日常生活中，光學(xué)鍍膜隨處可見，如平時(shí)戴的眼鏡、數(shù)碼相機(jī)、各式家電用品，或者是上的防偽技術(shù)，領(lǐng)域的各種設(shè)備、軍事領(lǐng)域的等等。普遍的是在太陽光下看手機(jī)屏的字，由于反射光透不強(qiáng)，屏幕模糊，這需要屏幕的光學(xué)鍍膜來達(dá)到透射清晰效果。

多功能化學(xué)氣相沉積加工生產(chǎn)故障是每個(gè)多功能化學(xué)氣相沉積企業(yè)都會(huì)遇到的問題，排除故障是多功能化學(xué)氣相沉積技術(shù)人員的重要職責(zé)。多功能化學(xué)氣相沉積實(shí)踐出真知，PVD鍍膜生產(chǎn)的實(shí)踐性很強(qiáng)。對(duì)經(jīng)過清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。要在調(diào)控PVD鍍膜生產(chǎn)的全過程中做到遇障不驚，PVD鍍膜的途徑就是在生產(chǎn)實(shí)踐中摸爬滾打、堅(jiān)韌實(shí)干善于思考，不斷探索和積累等。

真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。而BOPP、PE等非極性塑料薄膜，在蒸鍍前需對(duì)薄膜表面進(jìn)行電暈處理或涂布黏合層轉(zhuǎn)移法。加工件進(jìn)入鍍膜室前一定要做到認(rèn)真的鍍前清潔處理，表面污染來自工件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、 機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物，為了避免加工過程中造成的不良，真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。

對(duì)經(jīng)過清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛 氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至小。納米鍍膜機(jī)的工藝流程，塑料薄膜的鍍鋁工藝一般采用直鍍法，即將鋁層直接鍍?cè)诨谋∧け砻?。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔铩Ｕ婵斟兡ぜ庸?duì)于 高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。

首飾振動(dòng)電鍍以濺射的方法進(jìn)行真空鍍膜，由于其鍍膜方式的不同，同樣的鍍材所制備的薄膜效果也會(huì)不一樣的，雖然肉眼無法看出來，但確實(shí)擁有一定的優(yōu)勢(shì)。真空鍍膜層一般只有100nm，膜層的耐磨性和抗變色能力較差，施涂面涂層后，鍍膜層與外界不直接接觸，對(duì)鍍膜層能起保護(hù)作用。 膜厚穩(wěn)定性好，由于濺射鍍膜膜層的厚度與靶電流和放電電流具有很大的關(guān)系，電流越高，濺射效率越大，相同時(shí)間內(nèi)，所鍍膜層的厚度相對(duì)就大了，因?yàn)橹灰央娏鲾?shù)值控制好，需要鍍多厚，或者多薄的膜層都可以了。