不同燒結(jié)溫度下，通過鐵基結(jié)合劑胎體對金剛石的把持力系數(shù)的變化可以看出：未鍍和鍍鈦金剛石的把持力系數(shù)隨燒結(jié)溫度的升高有相同的變化規(guī)律，在730 °C 時把持力系數(shù)。在不同的燒結(jié)溫度下，鍍鈦金剛石節(jié)塊的把持力系數(shù)均高于未鍍的，說明金剛石表面鍍鈦后，胎體對金剛石的把持能力提高，即胎體與金剛石間的結(jié)合強(qiáng)度增加。此外，把持力系數(shù)與燒結(jié)溫度之間沒有線性關(guān)系。在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

離子鍍技術(shù)早由D. M. Mattox于1963年提出并付諸實踐的。其原理是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時，把蒸發(fā)物或其他反應(yīng)物鍍在基片上的工藝。

根據(jù)膜層粒子的獲得方式，離子鍍可分為蒸發(fā)型離子鍍和濺射型離子鍍，其中蒸發(fā)型離子鍍根據(jù)放電原理不同又可分為直流二級型離子鍍、熱絲弧離子鍍、空心陰極離子鍍以及熱陰極離子鍍等。

PVD加工特點

1).PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質(zhì)合金上，對比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍PVD，但是水鍍后做PVD容易起泡，不良率較高；

2).典型的 PVD 涂層加工溫度在 250 ℃—450 ℃之間；

3).涂層種類和厚度決定工藝時間，一般工藝時間為 3~6 小時；

4).PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工；優(yōu)點可以濺射所有材料，包括導(dǎo)體和絕緣體濺射可大規(guī)模生產(chǎn)磁控濺射磁控濺射通過在靶陰極表面引入正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面，成螺旋狀運行來增強(qiáng)電離效率，增加離子密度和能量以增加濺射率。

其缺點是：

1）工藝比傳統(tǒng)單色PVD的更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高；

2）生產(chǎn)良率低，大約為65～70%（傳統(tǒng)單色PVD的生產(chǎn)良率一般為85～90%；

3）價格會比傳統(tǒng)單色PVD的高50～60%；

4）因工藝和流程的影響，雙色PVD生產(chǎn)限制較多，受產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的影響較大，而傳統(tǒng)單色PVD則幾乎不受限制

現(xiàn)代涂層設(shè)備(均勻加熱技術(shù)、溫度測量技術(shù)、非平衡磁控濺 射技術(shù)、輔助陽極技術(shù)、中頻電源、脈沖技術(shù)) 現(xiàn)代涂層設(shè)備主要由真空室、真空獲得部分、真空測量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統(tǒng)、機(jī)械傳動部分、加熱及測溫部件、離子蒸發(fā)或濺射源、水冷系統(tǒng)等部分組成。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進(jìn)入輝光放電區(qū)并被電離。