大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規(guī)模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產(chǎn)線（氣體種類包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產(chǎn)線（氣體種類包括HCL）等行業(yè)。特氣系統(tǒng)知識分享：一般混合氣體由兩種以上氣體混合配制而成的氣體,而且主要標(biāo)出大致濃度,即可滿足使用要求,這種氣體稱為一般混合氣體。它們的投資規(guī)模巨大，采用1先進的工藝制程設(shè)備，用氣需求量大，對穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。

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試驗室供氣需求

目前大多數(shù)試驗室中的各種分析儀器如氣相色譜儀、氣相色譜質(zhì)譜儀、液相色譜質(zhì)譜儀、原子吸收分光光度計、原子熒光光度計、等離子發(fā)射光譜儀、電感耦合等離子質(zhì)譜儀等都需要連續(xù)使用高純載氣和燃氣，因此試驗室的安全、連續(xù)、穩(wěn)定運行需要我們考慮如何將這些氣體供到各試驗室中放置的分析儀器。⑥各種可燃氣體管道系統(tǒng)均應(yīng)設(shè)置能引入氮氣等惰性氣體的接口及相應(yīng)的檢測口，以便在可燃氣體供應(yīng)系統(tǒng)使用前后或檢修動火前后對其系統(tǒng)進行吹掃置換，但是惰性氣體吹掃接口在正常運行中不能與氣體鋼瓶或惰性氣體管道相通，以避免影響氣體質(zhì)量。

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試驗室供氣現(xiàn)狀

目前我們可以用采用高壓氣瓶、液體杜瓦瓶、集中供氣系統(tǒng)完成上述工作。同時，當(dāng)?shù)叵酪?guī)范建議甚至要求將主要的氣體源如氣瓶、杜瓦瓶和液體儲槽放置在工作區(qū)外的指1定區(qū)域，然后將氣體通過管道系統(tǒng)輸送至試驗室內(nèi)。

但是考慮安全和效率因素，不考慮經(jīng)濟性因素，集中供氣系統(tǒng)是比較優(yōu)1秀的方式。并成為當(dāng)今試驗室設(shè)備使用高純氣體的可靠連續(xù)的供應(yīng)源，氣體通過管道系統(tǒng)輸送至試驗室內(nèi)，并可通過安裝在工作臺上的使用點二級減壓器方便地調(diào)節(jié)壓力和流量。

國內(nèi)比較老的試驗室在使用氣體的時候大多是將氣瓶放在用氣點的旁邊，然后在氣瓶出口處安裝一個減壓器，然后直接通過紫銅管或四氟軟管連接到儀器上，如果一個試驗室里有多個使用設(shè)備時，就會有很多氣瓶，同時有很多雜亂的管路，同時這些氣體不乏有毒氣體、強腐蝕氣體，以及氣瓶出口高壓等因素，使得這種方式在現(xiàn)實使用過程中是充滿危險性的。2、經(jīng)濟性：建一個集中的氣瓶間可以節(jié)省有限的試驗室空間，更換氣瓶時不需要切斷氣體，保證氣體的連續(xù)供應(yīng)。

氦質(zhì)譜檢漏儀

真空檢漏的方法很多，氦質(zhì)譜檢漏儀的使用大大提升了檢漏工作效率。

漏孔是指真空器壁上存在的形狀不定、極其微小的空洞或間隙。大氣通過其進入真空系統(tǒng)或容器中；

漏率（漏氣速率）：是指單位時間內(nèi)通過漏孔或間隙流入到真空系統(tǒng)或容器的氣體量；

1小可檢漏率：是指采用某種檢漏方法或儀器可能檢測出來的1小漏率；

檢漏靈敏度：也叫有效靈敏度，指檢漏儀器在1佳工作狀態(tài)下能檢出的1小漏率；

反應(yīng)時間：也稱響應(yīng)時間，是指從檢漏方法開始實施（如噴射示漏氣體）到指示方法或儀器指示值上升到其漏孔1大泄漏率的63%時所需要的時間；

消除時間：是指從檢漏方法停止（如停止噴吹示漏氣體）到指示方法或儀器指示值下降到漏孔泄漏率的37%時所需的時間；

漏孔堵塞現(xiàn)象：指由于真空檢漏作業(yè)操作不當(dāng)導(dǎo)致塵?；蛞后w堵塞漏孔，檢漏時似乎不漏氣，但一經(jīng)排氣就會出現(xiàn)漏氣的一種現(xiàn)象。