無(wú)論是對(duì)于CO2激光，采用銅、鉬、硅、鍺等來(lái)制作反射鏡，采用鍺、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學(xué)元件材料，還是對(duì)于YAG激光采用普通光學(xué)玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學(xué)元件材料，都不能達(dá)到全反射鏡的99%以上要求。不同應(yīng)用時(shí)輸出鏡有不同透過(guò)率的要求，因此必須采用光學(xué)鍍膜方法。對(duì)于CO2激光燈中紅外線波段，常用的鍍膜材料有氟化釔、氟化鐠、鍺等;對(duì)于YAG激光燈近紅外波段或可見(jiàn)光波段，常用的鍍膜材料有硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯等。除了高反膜、增透膜之外，還可以鍍對(duì)某波長(zhǎng)增反射、對(duì)另一波長(zhǎng)增透射的特殊膜，如激光倍頻技術(shù)中的分光膜等。影響一面平面透鏡的透光度有許多成因。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

一、鍍膜室極限壓力的測(cè)定1、試驗(yàn)條件：（1）鍍膜室內(nèi)沒(méi)有安放基材（空載狀態(tài)）；（2）用來(lái)測(cè)量的真空計(jì)應(yīng)和設(shè)備本身是配套的，且為有效期之內(nèi)；（3）在抽氣過(guò)程中，對(duì)鍍膜室用設(shè)備配套的加熱轟擊裝置進(jìn)行除氣；（4）真空測(cè)量規(guī)管應(yīng)裝于鍍膜室壁上或zui靠近鍍膜室的管道上；（5）對(duì)具有中擱板、上卷繞室和鍍膜室的卷繞鍍膜設(shè)備，應(yīng)在兩室同時(shí)抽氣時(shí)對(duì)鍍膜室的壓力進(jìn)行測(cè)試。2、測(cè)試方法：連續(xù)對(duì)鍍膜室抽氣24h這一時(shí)間段之間，測(cè)定出過(guò)程中的壓力zui低值，則定為該設(shè)備的極限壓力。如果壓力變化值在0.5h內(nèi)沒(méi)有超過(guò)5％的波動(dòng)，則取zui高測(cè)量表讀數(shù)值作為極限壓力值。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

在ji小空間的電流密度極高，弧斑尺寸ji小，估計(jì)約為1μm～100μm，電流密度高達(dá)l05A／cm2～107A／cm2。每個(gè)弧斑存在極短時(shí)間，爆發(fā)性地蒸發(fā)離化陰極改正點(diǎn)處的鍍料，蒸發(fā)離化后的金屬離子，在陰極表面也會(huì)產(chǎn)生新的弧斑，許多弧斑不斷產(chǎn)生和消失，所以又稱(chēng)多弧蒸發(fā)。zui早設(shè)計(jì)的等離子體jia速器型多弧蒸發(fā)離化源，是在陰極背后配置磁場(chǎng)，使蒸發(fā)后的離子獲得霍爾(hall)jia速xiao應(yīng)，有利于離子增大能量轟擊量體，采用這種電弧蒸發(fā)離化源鍍膜，離化率較高，所以又稱(chēng)為電弧等離子體鍍膜。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制