一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷(xiāo)售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

（一）、內(nèi)部結(jié)構(gòu)

   X熒光光譜測(cè)厚儀機(jī)型很多，但是其內(nèi)部結(jié)構(gòu)如果先天不足，后期的外部結(jié)構(gòu)無(wú)論自動(dòng)化多高，也無(wú)法完全滿(mǎn)足客戶(hù)需求。內(nèi)部結(jié)構(gòu)重要的3點(diǎn)：

1、X熒光發(fā)射和CCD觀測(cè)是否同步和垂直？

2、測(cè)試樣品是否可以變化測(cè)頭到樣品的距離？

3、X光照射面積從出口到樣品的擴(kuò)散情況。

（二）、各種內(nèi)部結(jié)構(gòu)的優(yōu)缺點(diǎn)

   1、X熒光發(fā)射和CCD觀測(cè)樣品只有同步且垂直才不會(huì)因?yàn)闃悠返母叩蜕顪\變化而改變測(cè)試到樣品的位置，才能保證定位精準(zhǔn)，同時(shí)減少與探測(cè)器或計(jì)數(shù)器的夾角，夾角小測(cè)試時(shí)

受樣品曲面或者傾斜影響小。

2、測(cè)試樣品距離可變化才能測(cè)試高低不平帶凹槽的樣品工件，同時(shí)也兼顧好平面樣品的測(cè)試。但是它需要配備變焦鏡頭和變焦

補(bǔ)償射線(xiàn)的算法。

3、X光照射面積從出口到樣品的擴(kuò)散過(guò)于嚴(yán)重會(huì)導(dǎo)致無(wú)法測(cè)試樣品工件上較小的平面位置，如果減小出口（準(zhǔn)直器直徑），又會(huì)嚴(yán)重耗損X光的強(qiáng)度。

因此一臺(tái)此類(lèi)儀器的小準(zhǔn)直器不是關(guān)鍵，但是測(cè)試面積卻是個(gè)重要的指標(biāo)。

X射線(xiàn)測(cè)厚儀結(jié)構(gòu)

（一）、外部結(jié)構(gòu)原理圖

X熒光做鍍層分析時(shí)，根據(jù)射線(xiàn)是至上而下照射樣品，還是至下而上照射樣品的方式，將X熒光分析儀的外部整體結(jié)構(gòu)分為：上照射和下照射兩種結(jié)構(gòu)。

（二）、各種外部結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)

1、上照射方式

   用于照射(激發(fā))的X射線(xiàn)是采用由上往下照射方式的設(shè)備稱(chēng)為上照射儀器。此類(lèi)設(shè)備的Z軸為可移動(dòng)方式，用于確定射線(xiàn)照射光斑的焦點(diǎn)，確保測(cè)量的準(zhǔn)確性。

①、Z軸的移動(dòng)方式

   根據(jù)Z軸的移動(dòng)方式，分為自動(dòng)和手動(dòng)兩類(lèi)；

自動(dòng)型的設(shè)備完全由程序與自動(dòng)控制裝置實(shí)現(xiàn)，其光斑對(duì)焦的重現(xiàn)性與準(zhǔn)確度都很高，而且使用非常簡(jiǎn)便（一般是與圖像采集系統(tǒng)與控制系統(tǒng)相結(jié)合的方式），一般只需要用鼠標(biāo)在圖像上點(diǎn)擊一下即可定位。此類(lèi)設(shè)備對(duì)于測(cè)試形狀各異的樣品非常方便，也是目前主流的分析設(shè)備類(lèi)型。1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿(mǎn)足微小測(cè)試點(diǎn)的需求一次可同時(shí)分析多達(dá)五層鍍層度適應(yīng)范圍為15℃至30℃鍍層厚度一般在50μm以?xún)?nèi)（每種材料有所不同）分析含量一般為2ppm到99。

   手動(dòng)型設(shè)備，一般需要用人觀察圖像的方式，根據(jù)參考斑點(diǎn)的位置，手動(dòng)上下調(diào)節(jié)Z軸方向，以達(dá)到準(zhǔn)確對(duì)焦的目的。因此，往往在測(cè)試對(duì)象幾何結(jié)構(gòu)基本上沒(méi)有變化的情況下使用比較快捷。

②、X、Y軸水平移動(dòng)方式

水平移動(dòng)方式一般分為：無(wú)X、Y軸移動(dòng)裝置；手動(dòng)X、Y軸移動(dòng)裝置；電動(dòng)X、Y軸移動(dòng)裝置；全程控自動(dòng)X、Y軸移動(dòng)裝置。

這幾類(lèi)的設(shè)備都是根據(jù)客戶(hù)實(shí)際需要而設(shè)計(jì)的，例如：使用無(wú)X、Y軸移動(dòng)裝置的也很多，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，樣品水平移動(dòng)完全靠手動(dòng)移動(dòng)，這種設(shè)備適合于樣品面積較大，定位比較容易的測(cè)試對(duì)象。  

一六儀器 專(zhuān)業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線(xiàn)熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車(chē)電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

能量色散X熒光光譜儀定義及原理

X射線(xiàn)熒光光譜儀是一種可以對(duì)多元素進(jìn)行快速同時(shí)測(cè)定的儀器。試樣受X射線(xiàn)照射后，其中各元素原子的內(nèi)殼層（K，L或M層）電子被激發(fā)逐出原子而引起電子躍遷，并發(fā)射出該元素的特征X射線(xiàn)熒光。每一種元素都有其特定波長(zhǎng)的特征X射線(xiàn)。005mm采用高度定位激光，可自動(dòng)定位測(cè)試高度定位激光確定定位光斑，確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái)，鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)良好的射線(xiàn)屏蔽作用測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)。能散型X射線(xiàn)熒光光譜儀（EDXRF）利用熒光X射線(xiàn)具有不同能量的特點(diǎn)，由探測(cè)器本身的能量分辨本領(lǐng)來(lái)分辨探測(cè)到的X射線(xiàn)。

選擇Elite（一六儀器）X射線(xiàn)熒光鍍層測(cè)厚儀理由：

   根據(jù)IPC規(guī)程，必須使用整塊的標(biāo)準(zhǔn)片來(lái)校正儀器，對(duì)于多鍍層的測(cè)量，目前大多數(shù)客戶(hù)購(gòu)買(mǎi)的測(cè)厚儀采用的是多種箔片疊加測(cè)量校正，比如測(cè)量PCB板上的Au/Pd/Ni/Cu,因?yàn)闇y(cè)量點(diǎn)很小，測(cè)量距離的變化對(duì)測(cè)量結(jié)果有較大影響，如果使用Au，Pd，Ni三種箔片疊加校正，校正的時(shí)候箔片之間是有空氣，并且Pb元素與空氣的頻譜重疊，以上會(huì)對(duì)測(cè)量結(jié)果產(chǎn)生較大影響，Elite（一六儀器）測(cè)厚儀有電鍍好的整塊的Au/Pd/Ni/base標(biāo)準(zhǔn)片，不需要幾種箔片疊加校正，可以確保鍍層測(cè)量的準(zhǔn)確性。廣泛應(yīng)用于電子元器件、LED和照明、家用電器、通訊、汽車(chē)電子、*工等制造領(lǐng)域。

2、采用微聚焦X射線(xiàn)管，油槽式設(shè)計(jì)，工作時(shí)采用油冷，長(zhǎng)期使用時(shí)壽命更長(zhǎng)。微聚焦X射線(xiàn)管配合比例接收能實(shí)現(xiàn)高計(jì)數(shù)率，可以進(jìn)行測(cè)量。

3、Elite（一六儀器）WinFTM專(zhuān)用軟件，具有強(qiáng)大且界面友好、中英文切換，多可同時(shí)測(cè)量23層鍍層，24種元素，測(cè)量數(shù)據(jù)可直接以WORD格式或EXCEL格式輸出、打印、保存。采用基本參數(shù)法（FP），有內(nèi)置頻譜庫(kù)，無(wú)論是鍍層系統(tǒng)還是固體和液體樣品，都能在沒(méi)有標(biāo)準(zhǔn)片的情況下進(jìn)行準(zhǔn)確的分析和測(cè)量。如果使用金屬箔貼在特殊基體表面作標(biāo)準(zhǔn)片，就必須注意確保接觸清潔，無(wú)皺折紐結(jié)。

4、 Elite（一六儀器）針對(duì)PCB（印制電路板）線(xiàn)路板上的鍍層厚度及分析而設(shè)計(jì)的X射線(xiàn)熒光測(cè)厚儀（XDLM-PCB200/PCB210系列）具有以下特點(diǎn)：1）工作臺(tái)有手動(dòng)和程序控制供客戶(hù)選擇，2）采用開(kāi)槽式設(shè)計(jì)和配置加長(zhǎng)型樣品平臺(tái)，用于檢測(cè)大尺寸的線(xiàn)路板。GD-OES方法用惰性原子逐層轟擊及剝離試樣表層，再用發(fā)射光譜測(cè)定，這種方法可實(shí)現(xiàn)剖面或逐層分析，但測(cè)量重復(fù)性并不理想。