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蝕刻機(jī)可以分為化學(xué)蝕刻機(jī)及電解蝕刻機(jī)兩類。在化學(xué)蝕刻中是使用化學(xué)溶液,經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)以達(dá)到蝕刻的目的,化學(xué)蝕刻機(jī)是將材料用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻過程中應(yīng)注意的問題,每一個(gè)都特別重要。 1.減少側(cè)蝕和突沿,提高蝕刻系數(shù)側(cè)蝕產(chǎn)生突沿。通常印制板在蝕刻液中的時(shí)間越長,側(cè)蝕越嚴(yán)重。側(cè)蝕嚴(yán)重影響印制導(dǎo)線的精度,嚴(yán)重側(cè)蝕將使制作精細(xì)導(dǎo)線成為不可能。 2.提高板子與板子之間蝕刻速率的一致性在連續(xù)的板子蝕刻中,蝕刻速率越一致,越能獲得均勻蝕刻的板子。要達(dá)到這一要求,必須保證蝕刻液在蝕刻的全過程始終保持在的蝕刻狀態(tài)。這就要求選擇容易再生和補(bǔ)償,蝕刻速率容易控制的蝕刻液。選用能提供恒定的操作條件和對各種溶液參數(shù)能自動控制的工藝和設(shè)備。通過控制溶銅量,PH值,溶液的濃度,溫度,溶液流量的均勻性(噴淋系統(tǒng)或噴嘴以及噴嘴的擺動)等來實(shí)現(xiàn)。 3.高整個(gè)板子表面蝕刻速率的均勻性板子上下兩面以及板面上各個(gè)部位的蝕刻均勻性是由板子表面受到蝕刻劑流量的均勻性決定的。蝕刻過程中,上下板面的蝕刻速率往往不一致。一般來說,下板面的蝕刻速率高于上板面。因?yàn)樯习迕嬗腥芤旱亩逊e,減弱了蝕刻反應(yīng)的進(jìn)行。
藥性減低的原因及還原方式
隨著化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行,蝕刻液藥性降低,是因?yàn)槿然F氧化成了氯化亞鐵,此時(shí)需要將氯化亞鐵還原成三氯化鐵增加藥液酸性。需加入水溶液(還原劑)﹑鹽酸()
2.還原反應(yīng):2FeCl2 NaClO 2HCL﹦2FeCl3 NaCl H2O
氯化亞鐵 鹽酸=三氯化鐵 氯化鈉 水(由于亞鐵離子在水中極易水解而產(chǎn)生氫氧化亞鐵:FeCl2 H2O=,Fe(OH)2 HCL所以為了防止氯化亞鐵水解變質(zhì),常在氯化亞鐵溶液中添加一些鹽酸.)
3.由于鹽酸容易揮發(fā),隨著化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行,還會發(fā)生以下反應(yīng):
6FeCl2 NaClo 3H2O=4FeCl3 2Fe(OH)3 ↓ NaCl
氯化亞鐵 水=三氯化鐵 氫氧化鐵(沉淀物) 氯化鈉
(其中氫氧化鐵為沉淀物,所以隨著化學(xué)反應(yīng)時(shí)間的加長,藥箱內(nèi)會出現(xiàn)粘稠狀物質(zhì)。除去該粘稠狀沉淀物,需采用物理過濾方式,如:過濾網(wǎng)過濾或凈水裝置)