膜層具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)、表面細(xì)膩光滑并富有金屬光澤同時(shí)顏色均勻一致，大幅度提高工件的外觀裝飾性能。膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.2μm ～ 5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.2μm ～ 2μm ，因此真空鍍膜廠家可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能。膜層抵抗力強(qiáng)，在常規(guī)環(huán)境下具有、，不失去光澤、耐磨損、耐刮擦、不易劃傷，且可鍍材料廣泛，與基體結(jié)合力強(qiáng)。

真空鍍膜技術(shù)可使用的材料廣泛:可作為真空鍍膜材料有幾十種,包括金屬、合金和非金屬.真空鍍膜加工還可以加工出多層結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜,滿足對(duì)涂層各種不同性能的需求。

(1)薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。

(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。

(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。

(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無(wú)環(huán)境污染。

真空鍍膜技術(shù)可使用的材料廣泛:可作為真空鍍膜材料有幾十種,包括金屬、合金和非金屬。真空鍍膜技術(shù)性能優(yōu)良:真空鍍膜厚度遠(yuǎn)小于電鍍層,但涂層的耐摩擦和耐腐蝕性能良好,孔隙率低,而且無(wú)氫脆現(xiàn)象,相對(duì)電鍍加工而言可以節(jié)約大量金屬材料。

待真空鍍膜電鍍的素材必須達(dá)到以上表面要求，才能進(jìn)爐真空爐體內(nèi)電鍍。一般情況下，素材表面在滿足使用的條件下，表面光潔度越好，膜層結(jié)合力越好，效果也越好。

鍍膜應(yīng)用，簡(jiǎn)單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。成膜有很多優(yōu)點(diǎn)：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過(guò)程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過(guò)程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。