從鍍膜的原理及特點(diǎn)看，真空蒸鍍工件不帶電，真空條件下金屬加熱蒸發(fā)沉積到工件表面，沉積粒子的能量與蒸發(fā)時(shí)的溫度對(duì)應(yīng)。濺射的工件為陽(yáng)極，靶為陰極，利用原子的濺射作用把靶材原子擊出而沉積在工件表面上，沉積原子的能量由被濺射原子的能量分布決定。離子鍍的工件為陰極，蒸發(fā)源為陽(yáng)極，進(jìn)入輝光放電空間的金屬原子離子化后奔向工件，并在工件表面沉積成膜，沉積過(guò)程中離子對(duì)基片表面、膜層與基片的界面以及膜層本身都發(fā)生轟擊作用，粒子的能量決定于陰極上所加的電壓。

真空鍍膜基本方法 ：

從被沉積物質(zhì)的氣化方式看，真空蒸鍍?yōu)殡娮杓訜帷㈦娮邮訜?、感?yīng)加熱、激光加熱等；濺射的鍍料原子不是靠加熱方式蒸發(fā)，而是靠陰極濺射由靶材獲得沉積原子；離子鍍可以分為蒸發(fā)式或者濺射式，蒸發(fā)式為電阻加熱、電子束加熱、感應(yīng)加熱、激光加熱等，濺射式由進(jìn)入輝光放電空間的原子由氣體提供，反應(yīng)物沉積在基片上。

濺射鍍膜技術(shù)是用離子轟擊靶材表面，濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體表面形成PVD涂層。通常是利用氣體放電產(chǎn)生氣體電離，其正離子在電場(chǎng)作用下高速轟擊陰極靶體，擊出陰極靶體原子或分子，飛向被鍍基體表面沉積成PVD涂層。磁控濺射鍍膜技術(shù)是在濺射鍍膜基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái)，與濺射鍍膜相比，沉積速率更快，涂層致密且與基體附著性好。

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塑料基材與真空鍍層通常為金屬)兩者熱膨脹系數(shù)相差很大，在真空鍍膜升溫、降溫過(guò)程中膜層容易，膜層越厚，的可能性越大，因此選用合適的涂層作為過(guò)渡層，可以減少內(nèi)應(yīng)力的積累和的發(fā)生。