uv鍍廠武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務(wù)的廠家，主要鍍膜產(chǎn)品有不銹鋼，鐵，鋁合金，玻璃制品，塑料工藝制品等，鍍膜顏色多樣豐富，可根據(jù)客戶的產(chǎn)品進(jìn)行設(shè)計(jì)和定制。

恒緣鈦金與您分享表面改性與涂層工藝模擬和性能預(yù)測的現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢

表面改性與涂層技術(shù)作為表面工程的重要組成部分，已經(jīng)滲透到傳統(tǒng)工業(yè)與高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)部門，根據(jù)應(yīng)用的要求反過來又促進(jìn)表面功能覆層技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展。根據(jù)使用要求，對材料表面進(jìn)行設(shè)計(jì)、對表面性能參數(shù)進(jìn)行剪裁，使之符合特定要求，并進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)對表面覆蓋層的組織結(jié)構(gòu)和性能和預(yù)測等，已成為該領(lǐng)域重要研究方向。國外已對CVD、PVD以及其它表面改性方法開展計(jì)算機(jī)模擬研究，針對CVD過程進(jìn)行模擬，采用宏觀和微觀多層次模型，對工藝和涂層各種性能和基體的結(jié)合力進(jìn)行模擬和預(yù)測；對滲碳，滲氮工件滲層性能應(yīng)力等進(jìn)行計(jì)算機(jī)模擬等等，人們可以更好地控制和優(yōu)化工藝過程。操作條件及工藝參數(shù)，如溶液的溫度、濃度、PH值、操作使用的電壓和電流密度。我國這方面的研究剛處地超步階段。

恒緣鈦金廠將竭誠為您提供周到的表面處理加工服務(wù)。歡迎您致電圖片上方的聯(lián)系方式。

恒緣鈦金與您分享常用真空電鍍加工的兩種方式

真空電鍍加工工作方式主要有兩種，真空蒸鍍與真空濺鍍。下面簡單介紹一下這兩種方式。

它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜。

真空蒸鍍是將工件裝入電鍍機(jī)內(nèi)，然后將室內(nèi)空氣抽走，達(dá)到一定的真空度后，將室內(nèi)的鎢絲通電加熱。當(dāng)達(dá)到一定的溫度后，鎢絲上所放置的金屬絲氣化，然后隨著室內(nèi)的工件的轉(zhuǎn)動(dòng)均勻的沉積在工件表面，形成金屬膜。金屬鍍膜技術(shù)是化學(xué)鍍膜中的一個(gè)分支，說到金屬鍍膜就得先說說化學(xué)鍍膜的歷史，化學(xué)鍍其實(shí)是一種古老的鍍金屬工藝，其源頭可追溯到古埃及的制鏡術(shù)，近代的化學(xué)鍍技術(shù)是在塑料上應(yīng)用以后才引起大家的注意。一般常見的真空電鍍加工金屬有鋁、鎳、銅等等。但由于熔點(diǎn)，工藝控制等方面的原因。

真空濺鍍主要利用輝光防電將ya氣AR離子撞擊靶材表面，靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來得好，但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢的多。超聲波脫脂是脫脂眾多種類中的一種，超聲波屬于高頻聲波，頻率達(dá)到16kHz以上，而超聲波除油就是基于空化作用原理，運(yùn)用超聲波除油可以縮短除油的時(shí)間、提高除油的質(zhì)量、同時(shí)可以降低化學(xué)藥品的消耗量。新型的真空電鍍加工設(shè)備幾乎都是用磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍ya氣離子化，造成靶與ya氣離子間的撞擊幾率增加，提高濺鍍速率。

uv鍍廠武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務(wù)的廠家，主要鍍膜產(chǎn)品有不銹鋼，鐵，鋁合金，玻璃制品，塑料工藝制品等，鍍膜顏色多樣豐富，可根據(jù)客戶的產(chǎn)品進(jìn)行設(shè)計(jì)和定制。

恒緣鈦金與您分享真空電鍍常用的種類

1：IPS，是金屬Gr的化合物，表面堅(jiān)硬，顏色接近不銹鋼，硬度遠(yuǎn)硬于不銹鋼，用于華為的A-U121面殼裝飾件

2：IP鉻，是純金屬Gr，耐腐蝕優(yōu)良，表面銀白帶藍(lán)色，光彩奪目，完全取代六價(jià)Gr水鍍過程。

3：IPG，是爐內(nèi)Ti的氮化物和金合金的復(fù)合鍍層，既有金的華貴大方，又有工具鍍層的耐磨特質(zhì)，可以全部或部分代替黃金鍍層用于手機(jī)殼的裝飾。

4：IP槍：是金屬Ti和C的化合物，鍍層從純黑到槍黑有多種穩(wěn)定的顏色用于裝飾，黑色鍍層典雅大方，廣泛用于手機(jī)的裝飾目的。

5: 除上述以外，還有IP蘭，IP咖啡色等等，一些新的顏色鍍種還在不斷開發(fā)之中，

6：近年來隨著UV噴涂，電泳技術(shù)的普及，防指紋技術(shù)的日臻成熟，PVD電鍍的應(yīng)用會更加廣泛的應(yīng)用到手機(jī)行業(yè)。

恒緣鈦金與您分享分享過程中影響膜均勻性的因素有哪些

薄膜均勻性的概念：

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。第三個(gè)，要求有良好的物理、化學(xué)以及機(jī)械性能并且有符合標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的鍍層厚度，主要的是，真空電鍍的鍍層分布要均勻。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在，具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。

2.化學(xué)組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。這樣有一個(gè)有點(diǎn)，就是加強(qiáng)了傳質(zhì)過程的同時(shí)，也對鍍層表面進(jìn)行了整理。

3.晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問題，具體見下。

主要分類有兩個(gè)大種類：蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等