鍍膜機(jī)廠家介紹光學(xué)監(jiān)控法的特點(diǎn)

真空鍍膜機(jī)膜厚的監(jiān)控方法較多，目前較新的方法是光學(xué)監(jiān)控法，其相對(duì)于的傳統(tǒng)的石英晶體微量平衡法來(lái)說(shuō)，光學(xué)監(jiān)控法更具有準(zhǔn)確性，因?yàn)閭鹘y(tǒng)的測(cè)試的方法很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域，從而對(duì)膜層造成較大的誤差。下面鍍膜機(jī)廠家就來(lái)為大家介紹一些光學(xué)監(jiān)控法的特點(diǎn)。

光學(xué)監(jiān)控法可以有效提高光學(xué)反應(yīng)對(duì)膜厚度變化靈敏度的理論和方法來(lái)減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)，光學(xué)監(jiān)控法非常適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。能夠更準(zhǔn)確地控制膜層厚度 。

上述所說(shuō)就是鍍膜機(jī)廠家為大家介紹的光學(xué)監(jiān)控法的一些特點(diǎn)，而從中我們不難看出光學(xué)監(jiān)控相比傳統(tǒng)的監(jiān)控法來(lái)說(shuō)是一種更適合對(duì)真空鍍膜機(jī)膜厚的監(jiān)測(cè)方法。

真空離子鍍膜機(jī)的自動(dòng)化發(fā)展

真空離子鍍膜機(jī)是太陽(yáng)能真空管生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備，隨著自動(dòng)化技術(shù)的發(fā)展，其工藝要求及自動(dòng)化程度也越來(lái)越高。

開(kāi)始的真空離子鍍膜機(jī)控制系統(tǒng)采用繼電器控制，由模擬線路板及單片機(jī)等電路組成實(shí)現(xiàn)控制功能，因線路繁雜以及電子元器件的不穩(wěn)定造成設(shè)備性能的不穩(wěn)定，并且給維修工作帶來(lái)很大困難，另外操作界面不直觀，誤操作現(xiàn)象時(shí)有發(fā)生。

目前，真空離子鍍膜機(jī)已廣泛采用PLC可編程器設(shè)計(jì)控制系統(tǒng)，該技術(shù)已相當(dāng)成熟，基本取代了單片機(jī)，并采用先進(jìn)的人機(jī)界面觸摸屏進(jìn)行更加直觀的人機(jī)對(duì)話，可方便地設(shè)定參數(shù)，由控制系統(tǒng)按工藝流程分步或自動(dòng)運(yùn)行，具有各種系統(tǒng)保護(hù)以及故障提示、報(bào)警信息等功能，并且通過(guò)利用PLC通訊功能，與上位機(jī)通訊，實(shí)現(xiàn)對(duì)真空離子鍍膜機(jī)工藝流程的全程監(jiān)控，以便工程師及時(shí)發(fā)現(xiàn)并處理故障信息以及遠(yuǎn)程修改工藝參數(shù)等，較大地方便了生產(chǎn)過(guò)程質(zhì)量控制和管理。

磁控濺射鍍膜設(shè)備濺射方式

可鍍材料廣泛

離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉(zhuǎn)換成熱能，從而促進(jìn)了表層組織的擴(kuò)散作用和化學(xué)反應(yīng)。然而，整個(gè)工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應(yīng)用范圍較廣，受到的局限性則較小。通常，各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點(diǎn)材料等均可鍍復(fù)。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬，甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。

主要的鍍膜濺射方式有哪些？

磁控濺射鍍膜設(shè)備在目前鍍膜行業(yè)中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業(yè)都會(huì)有使用到。我們平日生產(chǎn)的時(shí)候都是由機(jī)器生產(chǎn)，那么大家知道目前的磁控鍍膜設(shè)備主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來(lái)給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。

磁控濺射鍍膜設(shè)備原理解析

主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種：（1）直流濺射；（2）射頻濺射；（3）磁控濺射；（4）反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實(shí)現(xiàn)薄膜的濺射沉積.

現(xiàn)在的直流濺射（也叫二級(jí)濺射）較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點(diǎn).

直流濺射發(fā)展后期,人們?cè)谄浔砻婕由弦欢ù艌?chǎng),磁場(chǎng)束縛住自由電子后,以上缺點(diǎn)均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法.

CCZK-SF磁控濺射鍍膜設(shè)備

而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象.

而射頻濺射是很高頻率下對(duì)靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

如果尋找本質(zhì)區(qū)別是：直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們常見(jiàn)的射頻是電焊機(jī).濺射過(guò)程所用設(shè)備的區(qū)別就是電源的區(qū)別.

以上就是主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射方式，希望本文能夠讓用戶(hù)對(duì)設(shè)備更加了解。