?高速鍍硬鉻的工藝詳解

高速鍍硬鉻，蕞適合于鍍硬鉻，微裂紋鉻，也可用于光亮鉻等。應(yīng)用該添加劑及其工藝，質(zhì)量好、工藝穩(wěn)定、生產(chǎn)效率髙、節(jié)約電能、經(jīng)濟(jì)效益顯著。該工藝已在國內(nèi)幾十家大中型企業(yè)使用，涉及紡機(jī)、活塞環(huán)、彩印制版、鋼鐵工業(yè)、產(chǎn)品、日用五金、減震器等方面，取得極佳效果，產(chǎn)品達(dá)水平，是普通鍍硬鉻產(chǎn)品的蕞佳替代品。

工藝特點：

1、陰極電流效率髙，可達(dá)20-30%，節(jié)約電能。

2、不含氟、無稀土、無陰極低電流密度區(qū)腐蝕。

3、覆蓋能力強(qiáng)，鍍層均勻。

4、鍍層平滑、細(xì)致，十分光亮。

5、鍍層硬度， 950-1100 HV。

6、微裂紋數(shù)提高。

7、微裂紋數(shù)，在1000條/厘米,有較高的抗蝕性，有了上述特性，鍍層耐磨性能有顯著提高。

8、沉積速度3-114μm/h。

9、鍍液穩(wěn)定，易操作，易維護(hù)。

10、 鍍層與基體結(jié)合力強(qiáng)。

11、 有較高的抗蝕性。

鍍硬鉻鑄鐵工件大量析氫，無鍍層

可能原因及處理方法工件鍍前腐蝕過度。用兩倍的電流（DK=80～120A/dm2）沖擊鍍3min，再恢復(fù)到正常電流電鍍（DK=40～60A/dm2）；縮短浸蝕時間或降低浸蝕液濃度。

陽極浸蝕時間過長。用2倍的電流（DK=80～120A/dm2）沖擊鍍3min，再恢復(fù)到正常電流電鍍（DK=40～60A/dm2）；縮短陽極浸蝕時間（控制在15～30s）.

沒有使用沖擊電流施鍍。用2倍的電流（DK=80～120A/dm2）沖擊鍍3min,再恢復(fù)到正常電流電鍍（DK=40～60A/dm2）。

鍍硬鉻故障及其處理方法，工件局部鍍不上鉻，并產(chǎn)生基體溶解現(xiàn)象

可能原因及處理方法

掛具設(shè)計不合理。掛具設(shè)計不合理的話，在工件表面形成氣袋，由于氣體的聚積，將液體排出，該部位無鍍液存在，鉻離子難以放電，而形成鍍層，所以要設(shè)計合理的掛具，避免在工件表面上形成氣袋。

基體局部氧化物未除盡。加強(qiáng)鍍前處理，保證基體達(dá)到“電鍍純”表面。

工件表面粗糙度高。提高工件表面光潔度，并采用2倍沖擊電流施鍍。

中途斷電，未按鉻上鍍絡(luò)工藝操作。取出工件，先進(jìn)行若腐蝕，再進(jìn)行電鍍。

在鍍鉻過程中，向鍍槽內(nèi)加人了冷水。用與鍍液溫度相同的熱水，沿槽壁加入，調(diào)整液面到規(guī)定高度。

溫度和電流密度反復(fù)和降低。在電鍍過程中，保證溫度和電流密度不變。