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重慶真空箱式鍍膜機(jī)檢漏服務(wù)中心信賴推薦「多圖」

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發(fā)布時(shí)間:2021-10-24 10:01  
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視頻作者:北京科創(chuàng)鼎新真空技術(shù)有限公司






背壓法氦質(zhì)譜檢漏

采用背壓法檢漏時(shí),首先將被檢產(chǎn)品置于高壓的氦氣室中,浸泡數(shù)小時(shí)或數(shù)天,如果被檢產(chǎn)品表面有漏孔,氦氣便通過漏孔壓入被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封腔中,使內(nèi)部密封腔中氦分壓力上升。然后取出被檢產(chǎn)品,將表面的殘余氦氣吹除后再將被檢產(chǎn)品放入與檢漏儀相連的真空容器內(nèi),被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封腔內(nèi)的氦氣會(huì)通過漏孔泄漏到真空容器,再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀,從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率測量。檢漏儀給出的漏率值為測量漏率,需要通過換算公式計(jì)算出被檢產(chǎn)品的等效標(biāo)準(zhǔn)漏率。真空法氦質(zhì)譜檢漏采用真空法檢漏時(shí),需要利用輔助真空泵或檢漏儀對被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空,采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣,當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏孔時(shí),氦氣就會(huì)通過漏孔進(jìn)入被檢產(chǎn)品內(nèi)部,再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀,從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測量。

背壓法的優(yōu)點(diǎn)是檢測靈敏度高,能實(shí)現(xiàn)小型密封容器產(chǎn)品的泄漏檢測,可以進(jìn)行批量化檢測。

背壓法的缺點(diǎn)是不能進(jìn)行大型密封容器的漏,否則由于密封腔體容積太大,導(dǎo)致加壓時(shí)間太長。此外,每個(gè)測量漏率都對應(yīng)兩個(gè)等效標(biāo)準(zhǔn)漏率,在細(xì)檢完成后還需要采用其它方法進(jìn)行粗檢,排除大漏的可能。

背壓法的檢漏標(biāo)準(zhǔn)主要有QJ3212-2005《氦質(zhì)譜背壓檢漏方法》、GJB360A-1996《電子及電氣元件試驗(yàn)方法方法112 密封試驗(yàn)》,主要應(yīng)用于各種電子元器件產(chǎn)品檢漏。





為什么用氦氣作為檢漏的氣體?

1.氦氣分子量小,擴(kuò)散性強(qiáng)、滲透率高,即可以通過較小的孔。

2.氦氣在空氣中的體積含量約為5ppm,這說明正??諝猸h(huán)境中氦氣的含量很小,即氦本底很好。

3.氦氣是無毒無色無味的惰性氣體,這就意味著,正常情況下其可以作為介質(zhì)在所有的物體中存在,且不發(fā)生反應(yīng)。

4.在質(zhì)譜儀譜圖中易于與其它物質(zhì)區(qū)分。

5.綜合以上幾個(gè)特點(diǎn),氦氣作為一種檢漏的示蹤氣體,是較佳的選擇。





氦檢漏步驟

1、抽真空至5Pa以下就可以開始檢測。

2、插上檢漏儀電源,關(guān)閉上部手動(dòng)擋板閥,開啟檢漏儀總電源,此時(shí),“放氣”燈亮起,等待系統(tǒng)運(yùn)行

3、當(dāng)”系統(tǒng)正常”及旁邊的兩個(gè)燈都顯示為綠色時(shí),觀察預(yù)置參數(shù),應(yīng)為10-15,一般取15,觀察數(shù)值,應(yīng)為10的-8至-9次方時(shí),可以開始檢漏(等待幾分鐘)

4、按'檢漏”鍵,緩慢開啟頂部手動(dòng)擋板閥,注意:檢漏口的壓強(qiáng)不得超過10MPa,否則機(jī)器易損壞,

5、 數(shù)值穩(wěn)定后,先記錄下來,這就是. '本底”

6、逐個(gè)將氦氣充入焊縫,并封堵插入口,將數(shù)值變動(dòng)記錄下來。全部完成充氦后再觀察20分鐘,看數(shù)值有無大的變動(dòng)。

7、關(guān)機(jī)時(shí),應(yīng)先關(guān)閉上部手動(dòng)擋板閥,然后開啟放氣鍵,后關(guān)電源。






氦檢漏服務(wù)

質(zhì)量分析器是一個(gè)均勻的磁場空間不同離子的質(zhì)荷比不同在磁場中就會(huì)按照不同軌道半徑運(yùn)動(dòng)而進(jìn)行分離在設(shè)計(jì)時(shí)只讓氨離子飛出分析器的縫隙打在收集器上。收集放大器收集氨離子流并送入到電流放大器,通過測量離子流就可知漏率。冷陰極電離真空計(jì)指示質(zhì)譜室的壓力及用作保護(hù)裝置。86×10-5Pa·s,1L液氦氣化為標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下的氦氣體積為700L。

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