化學(xué)拋光的原理：金屬試樣表面各組成相的電化學(xué)電位不同，形成了許多微電勢(shì)，在化學(xué)溶液中會(huì)產(chǎn)生不均勻溶解。在溶解過(guò)程中試樣面表層會(huì)產(chǎn)生一層氧化膜，試樣表面凸出部分由于粘膜薄，金屬的溶解擴(kuò)展速度較慢，拋光后的表面光滑，但形成有小的起伏波形，不能達(dá)到十分理想的要求。

在化學(xué)拋光過(guò)程中，金屬零件表面不斷形成鈍化氧化膜和氧化膜不斷溶解，且前者要強(qiáng)于后者。由于零件表面微觀的不一致性，表面微觀凸起部位優(yōu)先溶解，且溶解速率大于凹下部位的溶解速率；而且膜的溶解和膜的形成始終同時(shí)進(jìn)行，只是其速率有差異，結(jié)果使金屬零件表面粗糙度得以整平，從而獲得平滑光亮的表面?；瘜W(xué)拋光可以填充表面毛孔、劃痕以及其它表面缺陷，從而提高疲勞阻力、腐蝕阻力。

不銹鋼表面處理拋光的方法，化學(xué)拋光，化學(xué)拋光是把零件浸入適當(dāng)?shù)娜芤褐?，因溶液?duì)表面凸出部位比凹下部位溶解快，從而使表面整平，達(dá)到拋光目的。一般來(lái)說(shuō)，化學(xué)拋光的拋光能力較差，只能少量提高光亮度。但比機(jī)械拋光省力、省時(shí)，且能夠?qū)π⌒土慵膬?nèi)表面進(jìn)行拋光。近來(lái)也有報(bào)道采用加入光亮劑的辦法可使18—8型奧氏體不銹鋼表面拋至鏡面光亮

化學(xué)拋光工藝有哪些特點(diǎn)？

首先，化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，無(wú)需電源設(shè)備。其次，化學(xué)拋光工藝不受制件外形尺寸限制，拋光速度快，生產(chǎn)。因?yàn)檫@些原因，化學(xué)拋光工藝也使得加工成本低廉。

化學(xué)拋光的優(yōu)點(diǎn)是：不需外加電源,可以處理形狀更為復(fù)雜的零件,生產(chǎn)等.但是化學(xué)拋光的表面質(zhì)量,一般略低于電解拋光,溶液的調(diào)整和再生也比較困難,往往拋光過(guò)程中會(huì)析出氧化氮等有害氣體。