微弧氧化過(guò)程

       在微弧氧化處理過(guò)程中，待氧化試樣與電源正極相連，作為陽(yáng)極浸入電解液之中，不銹鋼電解槽作為陰極與電源負(fù)極相連。在開(kāi)通電源后，正脈沖電壓快速升高，電流迅速下降，作為陽(yáng)極的待氧化試樣開(kāi)始進(jìn)行陽(yáng)極氧化,產(chǎn)生大量微小氣泡，同時(shí)在試樣表面形成了一層極薄的鈍化膜。主要可用于對(duì)耐磨、耐蝕、耐熱沖擊、高絕緣等性能有特殊要求的鋁基零部件的表面強(qiáng)化處理。當(dāng)外加脈沖電壓超過(guò)一定值時(shí)，材料表面出現(xiàn)一層極細(xì)微均勻的放電火花，這種微區(qū)火花放電現(xiàn)象在試樣表面不同位置出現(xiàn)，在待微弧氧化表面原位生長(zhǎng)陶瓷膜層，以達(dá)到強(qiáng)化材料表面的目的。微弧氧化設(shè)備、微弧氧化生產(chǎn)線(xiàn)、微弧氧化電源、鋁合金微弧氧化、微弧噴涂

       微弧氧化產(chǎn)生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發(fā)生相轉(zhuǎn)變和結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變。在微弧氧化的過(guò)程下，原來(lái)生產(chǎn)的氧化膜不會(huì)脫落，只有表面一部分氧化膜可能會(huì)被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續(xù)氧化，隨著外加電壓的升高，或時(shí)間的延長(zhǎng)，微弧氧化膜厚度會(huì)不斷增加，直至達(dá)到外加電壓所對(duì)應(yīng)的厚度。微弧氧化產(chǎn)生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發(fā)生相轉(zhuǎn)變和結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變。經(jīng)測(cè)試，微弧氧化膜的厚度可達(dá)到200-300μm。微弧氧化技術(shù)優(yōu)勢(shì)、微弧氧化設(shè)備、微弧氧化電源

        微弧氧化處理形成的陶瓷氧化膜，與基體呈冶金結(jié)合，膜層致密，具有良好的耐磨、耐蝕性能。 氧化膜的硬度一般能達(dá)到600-1500HV(膜層厚度20-50μm），耐磨性能優(yōu)于硬質(zhì)陽(yáng)極化膜及電鍍硬鉻。封孔后耐鹽霧試驗(yàn)水平可達(dá)2000小時(shí)以上。也可通過(guò)改變或調(diào)節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色。該氧化膜還具有良好的絕緣性，耐500V以上的高壓沖擊，且有效防止電偶腐蝕；氧化膜還具有良好的隔熱特性，是鋁合金活塞的首要選擇。