公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

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接觸光刻技術(shù)中使用的掩模的表面特征圖案的尺寸與實(shí)際掩模的尺寸相同。i在襯底上形成的圖案是1∶1，并且以直接接近光致抗蝕劑層表面的方式曝光i光線；另一方面，縮微技術(shù)中使用的掩模具有表面特征圖案的實(shí)際尺寸。i在襯底上形成的圖案的幾次通過光學(xué)系統(tǒng)投影模式曝光i光明。 

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石英巖的原巖可以是：單礦物石英砂巖，含泥質(zhì)、鈣質(zhì)石英砂巖，膠體沉積的硅質(zhì)巖（包括陸源碎屑溶解再沉積的硅質(zhì)巖和與火山噴氣有關(guān)的硅質(zhì)巖）和深海蟲硅質(zhì)巖等。不同原巖形成的石英巖，可根據(jù)結(jié)構(gòu)、變晶程度、副產(chǎn)物、巖石共生組合及產(chǎn)狀等加以區(qū)分。