電鍍工藝是利用電解的原理

電鍍工藝是利用電解的原理將導(dǎo)電體鋪上一層金屬的方法。電鍍是指在含有預(yù)鍍金屬的鹽類(lèi)溶液中，以被鍍基體金屬為陰極，通過(guò)電解作用，使鍍液中預(yù)鍍金屬的陽(yáng)離子在基體金屬表面沉積出來(lái)，形成鍍層的一種表面加工方法。電鍍是一種電化學(xué)過(guò)程，也是一種氧化還原過(guò)程.電鍍的基本過(guò)程是將零件浸在金屬鹽的溶液中作為陰極，金屬板作為陽(yáng)極，接直流電源后，在零件上沉積出所需的鍍層。例如鍍鎳時(shí)，陰極為待鍍零件，陽(yáng)極為純鎳板。

單金屬電鍍至今已有170多年歷史,元素周期表上已有33種金屬

單金屬電鍍至今已有170多年歷史，元素周期表上已有33種金屬可從水溶液中電沉積制取。常用的有電鍍鋅、鎳、鉻、銅、錫、鐵、鈷、鎘、鉛、金、銀等l0余種。在陰極上同時(shí)沉積出兩種或兩種以上的元素所形成的鍍層為合金鍍層。合金鍍層具有單一金屬鍍層不具備的組織結(jié)構(gòu)和性能，如非晶態(tài)Ni—P合金，相圖上沒(méi)有的各蕊sn合金，以及具有特殊裝飾外觀，特別高的抗蝕性和優(yōu)良的焊接性、磁性的合金鍍層等。

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發(fā)金屬或化合物的方法

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發(fā)金屬或化合物的方法，通過(guò)將蒸發(fā)的原子或分子應(yīng)用于要電鍍的物體，在表面上形成金屬或化合物的薄膜。在這里，薄膜是指厚度小于1μ的薄膜。工業(yè)應(yīng)用包括裝飾、包裝紙等，將鋁沉積在金屬光澤上，作為電氣應(yīng)用，用于電阻和電容器。如果地基不釋放氣體，它可以使用非金屬，而不僅僅是金屬。

此外，真空電鍍的沉積方法包括PVD（物理氣相沉積）和CVD法（化學(xué)氣相沉積）。PVD 使用熱和等離子體能量蒸發(fā)固體材料，并將其沉積在基板上。 CVD是一種利用熱和等離子體等能量的氣體，包括薄膜和元素，通過(guò)激發(fā)和分解在基板表面吸附和形成薄膜。

金屬表面磷化處理可以減少金屬被腐蝕的風(fēng)險(xiǎn)

磷化前表調(diào)的目的：表調(diào)又稱(chēng)表面調(diào)整，通過(guò)調(diào)整，可以改善工件表面的微觀狀態(tài)，從而改善磷化膜外觀，結(jié)晶細(xì)小，均勻，致密，進(jìn)而提高涂膜性能，以及提高磷化速度。金屬表面磷化處理工藝，主要是給金屬提供保護(hù)能力。在一定程度上，金屬表面磷化處理可以減少金屬被腐蝕的風(fēng)險(xiǎn)。在涂裝工藝中，金屬表面磷化處理能有效提高漆膜的結(jié)合力，增強(qiáng)耐腐蝕性能。