微弧氧化技術

       微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域，克服了硬質陽極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結合牢固，結構致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。微弧氧化技術的原理及特點微弧氧化陶瓷技術是一種在鋁、鎂、鈦等輕金屬合金表面原位生長陶瓷層的高新技術。該技術具有操作簡單和膜層功能可控的特點，而且工藝簡便，環(huán)境污染小，是一項全新的綠色環(huán)保型材料表面處理技術，在航空航天、機械、電子、裝飾等領域具有廣闊的應用前景。微弧氧化技術、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

微弧氧化槽液

       微弧氧化主要針對鋁、鎂、鈦、等閥金屬（閥金屬是指在電解液中起到電解閥門作用的金屬）。微弧氧化處理可在酸性和堿性電解液中進行，但由于酸性電解液對環(huán)境污染性較大現(xiàn)已較少使用。嚴重制約了而上釉工藝可以在金屬表面涂上色彩并經(jīng)過高溫燒結，形成耐磨，結合力好的表面處理。常用堿性電解液體系包括硅酸鹽體系、磷酸鹽體系、鋁酸鹽體系等，在單一或者它們的復合電解液中，增加各種添加劑如鎢酸鹽、鉬酸鹽等，以達到提高膜層生長速率和致密性等或者功能性膜層的目的。微弧氧化處理應根據(jù)基體材料的種類選用合適的電解液體系。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術

      微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高，耐蝕性強，絕緣性好，膜層與基底金屬結合力強，并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化技術工藝處理能力強，可通過改變工藝參數(shù)獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要；也可通過改變或調(diào)節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色；還可采用不同的電解液對同一工件進行多次微弧氧化處理，以獲取具有多層不同性質的陶瓷氧化膜層。這從根本上克服了鋁、鎂、鈦合金材料在應用中的缺點，因此該技術有廣闊的應用前景。微弧氧化技術、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化

微弧氧化的優(yōu)勢

       微弧氧化是一種直接在有色金屬表面原位生長陶瓷層的新技術，微弧氧化技術是近十幾年在陽極氧化基礎上發(fā)展起來的，但兩者在機理上、工藝上以及膜層性能上都有許多不同之處。所謂等離子體就是由大量的自由電子和離子組成，且在整體上表現(xiàn)為電中性的物質，它被稱為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)以外的第四態(tài)。但是，這樣不但使電源結構復雜化，同時也增加了控制電路的負擔，使電源成本增加。處于熱等離子態(tài)的物質具有強的導電性，且能量集中，溫度較高，是一個高熱、高溫的能源。與傳統(tǒng)的陽極氧化法相比，微弧氧化陶瓷膜與基體結合牢固，結構致密，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性、具有廣闊的應用前景。