微弧氧化技術(shù)特點

1、可處理任意大小工件

可處理任意大小工件（超小，超大） 可進(jìn)行細(xì)長管（可處理任何長度工件） 復(fù)雜異形件（如深盲孔內(nèi)部） 特殊材料特殊性能膜層制備等高難度研究工作。

2、高結(jié)合力

基體原位生長陶瓷膜，膜層與基底金屬結(jié)合力強,陶瓷膜致密均勻。

3、可處理的材料鎂、鋁、鈦、鋯、鉭、鈮等及其合金材料（包括含硅量較高的鋁合金）。

微弧氧化電解液組成及工藝條件

　     微弧氧化電解液組成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～3g/L，Na3VO3 1～3g/L；溶液pH為11～13；溫度為20～50℃；陰極材料為不銹鋼板；在微弧氧化過程中，化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復(fù)雜，至今還沒有一個合理的模型能完全描述陶瓷層的形成。電解方式為先將電壓迅速上升至300V，并保持5～10s，然后將陽極氧化電壓上升至450V，電解5～10min。

       兩步電解法，靠前步：將鋁基工件在200g/L的鉀水玻璃水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化5min；第二步：將經(jīng)靠前步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化15min。陰極材料為：不銹鋼板；微弧氧化技術(shù)是在普通陽極氧化技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，進(jìn)一步提高電壓，使電壓超出法拉第區(qū)，達(dá)到氧化膜的擊穿電壓，就會在陽極出現(xiàn)火花放電現(xiàn)象，在材料表面形成陶瓷氧化膜，使等離子體氧化膜既有陶瓷膜的高性能，又保持了陽極氧化膜與基體的結(jié)合力。溶液溫度為20～度為20～50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線

?微弧氧化工藝要求

      微弧氧化通過電源參數(shù)的靈活運用，微弧氧化電解液的特殊匹配，在鈦合金零件表面原位制備微弧氧化陶瓷膜的強化處理，達(dá)到防腐、提高發(fā)射率、耐磨、高絕緣等性能要求。根據(jù)實際加工時的工況，如復(fù)雜形狀工件、只對工件局部進(jìn)行微弧氧化處理、大面積工件的表面微弧氧化處理等情況，可采取特殊的工裝卡具及對工件進(jìn)行局部采取屏蔽，大大提高工效和降低成本。影響微弧氧化效果的因素一、電流密度(1)電流密度越大，氧化工業(yè)鋁型材的生長速度越快，工業(yè)鋁型材厚度不斷增加,但易出現(xiàn)燒損現(xiàn)象。微弧氧化工藝、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線