微弧氧化膜的優(yōu)勢

       微弧氧化膜與普通陽極氧化膜相比， 這種膜的空隙率大大降低，從而使耐蝕性和耐磨性有了較大提高。目前，微弧氧化技術(shù)主要應(yīng)用于Al、Mg、Ti 等有色金屬或其合金的表面處理中。經(jīng)微弧氧化后，借助天然散色光或在日光下目測檢驗，觀察氧化層的孔隙大小、色澤均勻程度、有沒有斑點、脫皮等現(xiàn)象。鎂合金微弧氧化技術(shù)所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相組成，總膜厚可達(dá)100 Lm以上, 具有明顯的三層結(jié)構(gòu): 外部的疏松層、中間的致密層和內(nèi)部的結(jié)合層。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化

微弧氧化的優(yōu)勢

       微弧氧化生成物的陶瓷屬性滿足了輕量化制造的表面性能要求。鋁、鎂合金因使用環(huán)境不同而需賦予不同的表面性能。微弧氧化由于具有工藝簡單、占地面積小、效率高、效果強、適合規(guī)模生產(chǎn)，又對環(huán)境污染小，因此目前在諸多行業(yè)都處于蓬勃發(fā)展的時期。經(jīng)微弧氧化處理的鋁、鎂合金，因其表面生成一層與基體以冶金方式結(jié)合的氧化鋁或氧化鎂為主的陶瓷層，陶瓷質(zhì)的高硬度、高阻抗和高穩(wěn)定性滿足鎂合金抗高溫腐蝕、連接（電偶）腐蝕、擦傷腐蝕及鋁合金防海水腐蝕、高溫?zé)嵛g和改善耐磨等性能要求。

       微弧電子學(xué)的研究方向就是在電子回路中設(shè)置一個由兩極和工作氣體或液體組成的氣固或氣液固界面，通過調(diào)控兩極之間的電磁場模式，以使固體表面誘發(fā)出具有“納米微束”放電特征的微弧現(xiàn)象，進(jìn)而實現(xiàn)固體表面物質(zhì)以“非熔發(fā)射”機制逐層剝離，再輔助以兩極之間的介質(zhì)約束，達(dá)到對固體材料表面原位改性、納米尺度逐層剝離、納米粒徑薄膜制備的目的。我們平時見到的電焊是一種大的電弧，把一平方厘米的電弧分解成一平方微米的小的弧點，就可以稱為微弧。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)

      微弧氧化技術(shù)是一種低碳環(huán)保的興新表面工藝處理技術(shù)。適用于對鋁、鎂、鈦等輕金屬以及鋁合金的表面處理。它能合理地在PCB原材料表面上原體生長發(fā)育一層勻稱的陶瓷膜。微弧氧化多孔層可作為頂漆的攜帶層，這樣既可滿足必要的硬度和負(fù)載要求，又可作為基體金屬的一個強有力的防護(hù)屏障，同時還保證表面復(fù)合物材料對于基體良好的粘合性。因為其加工工藝特性顯著，表面處理的性能優(yōu)點凸出，自該技術(shù)被創(chuàng)造發(fā)明至今，深受大家的親睞。微弧氧化解決是一種在稀有金屬表面原點生長發(fā)育化合物瓷器的新技術(shù)應(yīng)用。選用微弧氧化技術(shù)對鎂以及合金制品開展表面瓷器化解決，具備加工工藝全過程簡易，占地小，處理工藝能力強，生產(chǎn)制造速度快，適用大批量工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)勢。