合金材料及表面狀態(tài)對(duì)微弧氧化的影響

       微弧氧化技術(shù)對(duì)鋁基工件的合金成分要求不高，對(duì)一些普通陽(yáng)極氧化難以處理的鋁合金材料，如含銅、高硅鑄鋁合金的均可進(jìn)行微弧氧化處理。對(duì)工件表面狀態(tài)也要求不高，一般不需進(jìn)行表面拋光處理。對(duì)于粗糙度較高的工件，經(jīng)微弧氧化處理后表面得到修復(fù)變得更均勻平整；微弧氧化采用利用顯微硬度儀測(cè)量膜層表面顯微硬度曰利用環(huán)境掃描電子顯微鏡對(duì)微弧氧化陶瓷膜的表面、截面形貌以及微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行觀察。而對(duì)于粗糙度較低的工件，經(jīng)微弧氧化后，表面粗糙度有所提高。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源

微弧氧化技術(shù)的應(yīng)用  

       微弧氧化膜由于具有抗磨損、耐腐蝕、高介電和隔熱等特性，應(yīng)用在許多領(lǐng)域。如，航空、航天、汽車(chē)、船舶、機(jī)械、石油、化工、、電子等行業(yè)。盡管微弧氧化技術(shù)已經(jīng)在這些方面有些應(yīng)用，并且呈現(xiàn)新的應(yīng)用前景，但是推廣應(yīng)用的力度還不夠，這里包括技術(shù)和經(jīng)濟(jì)等多方面原因，有待于我們進(jìn)一步深入研究。2、在陽(yáng)極氧化不易成膜的某些鋁合金如Al-Cu、Al-Si等合金表面，同樣可獲得性能很好的厚膜，尤其在Al-Cu合金表面（如Ly12合金），可以形成高硬度的厚膜，HV可達(dá)到1600以上。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

       微弧氧化電流密度的選定還必須與其他工藝條件和性能要求相結(jié)合。這些工藝條件包括電解液組成和溫度、基材成分、電源模式等。微弧氧化突破傳統(tǒng)陽(yáng)極氧化的限制，利用電極間施加很高的電壓使浸在電解液中的電極表面發(fā)生微弧放電現(xiàn)象，電壓的高低是影響微弧氧化的主要因素之一。實(shí)驗(yàn)表明，不同的溶液有不同的電壓工作范圍，如果電壓過(guò)低，陶瓷層生長(zhǎng)速度較小，陶瓷層較薄，顏色較淺，硬度也較低;工作電壓過(guò)高，工件易出現(xiàn)燒蝕現(xiàn)象，生成的陶瓷層致密性較差，厚度不鈞勻。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線2、微弧氧化技術(shù)絕緣性好耐熱性高，可承受高溫使用，范圍根據(jù)基材熔點(diǎn)溫度有良好的絕緣性能，絕緣電阻膜阻>。