微弧氧化技術的優(yōu)勢

1．微弧氧化工藝穩(wěn)定可靠，設備簡單，反應在常溫下進行，操作方便，易于掌握。

2．微弧氧化膜有良好的耐磨損性能。

3．微弧氧化膜有良好的耐熱性及抗腐蝕性。這從根本上克服了鋁、鎂、鈦合金材料在應用中的缺點，因此該技術有廣闊的應用前景。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化圖片、微弧氧化設備

微弧氧化膜層形貌

       截面：微弧氧化陶瓷層與基體以冶金型微熔過渡區(qū)連接。 其組織致密無穿孔，且與基體成明顯的微冶金型結合 。此類組織特征大大增強了陶瓷層對基體的防腐蝕保護能力。

       表面： 盲孔微區(qū)分布 均勻，利于減摩條件下連續(xù)油膜的形成，改善潤滑條件，降低摩擦系數，延長使用壽命。對用于制取防腐保護涂層的產品，此類表面狀態(tài)利于進行封孔或噴粉等后續(xù)處理，增強其附著力。

      微弧氧化電解液不含有毒物質和重金屬元素，電解液（環(huán)保型）抗污染能力強和再生重復使用率高，因而對環(huán)境污染小，滿足環(huán)保、清潔生產的需要；陶瓷層與基體牢固結合、結構緊密，具有很高的韌性、耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。微弧氧化表面的陶瓷層比較致密，孔隙率極低，具有很高的耐腐蝕性能，鹽霧腐蝕性能提高5-10倍，綜合解決了實際應用的困擾問題，為鎂合金開發(fā)應用提供了技術保障，對“十五”國家科技攻關計劃具有重大意義，其社會效益和經濟效益將十分顯著。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術、鋁合金微弧氧化

陽極氧化膜層與微弧氧化膜層的區(qū)別是什么？

       由微弧氧化膜層的生長機理可知，陽極氧化是微弧氧化的初級階段。陽極氧化發(fā)生的是化學反應，而微弧氧化除化學反應外，還伴隨有電化學、高溫等離子體等反應。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結合，因此與基體結合良好。另外，膜層為氧化物瞬間冷凝形成，具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能，良好的絕緣性等。但歸跟到底，微弧氧化膜層與陽極氧化膜層醉的的差別在于：膜與基體的結合力，膜層內部致密性及相結構。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽極氧化膜層其它方面的性能差異。鈦合金用于航空航天領域需提高膜層的耐高溫性能及耐腐蝕性能，應用于生物材料則通常需改善其生物活性。微弧氧化生產線、微弧氧化電源