和亞電鑄件的純度高、應(yīng)力小、耐磨、耐腐蝕、按鍵問題解決。根據(jù)客戶的不同要求,生產(chǎn)各種不同類型的電鑄產(chǎn)品

電鑄金屬離子的濃度對電流密度有影響；若要提高鍍液的電流效率，鍍液需組成簡單，穩(wěn)定性好，便于管理和維護(hù)，廢水易于處理。鍍液的密度和粘度對過濾的效率有影響；電導(dǎo)度對金屬離子的遷移、熱容量對鍍液溫度的、離子擴(kuò)散系數(shù)對極限電流密度、電導(dǎo)度對電流密度、表面張力對氣體的逸出和孔的形成等，都有影響。對這些因素的影響的綜合考慮，決定電鑄液的組成。用于光盤母盤電鑄制作的鎳的電鑄液

電鑄技術(shù)雖然已經(jīng)進(jìn)入納米時代，但卻很少為人所知。其度很低。因此本稿為的普及電鑄的知識（而寫）。

電鑄從宏觀到現(xiàn)在的納米級，所使用的還是以160年前開發(fā)的技術(shù)為基礎(chǔ)的技術(shù)。但是在工藝流程和設(shè)備方面已經(jīng)有了很大進(jìn)步。這種導(dǎo)電化，有濕法的化學(xué)鍍和干法的真空鍍等，鍍層有銀、銅、鎳等金屬膜。今后，需要進(jìn)一步發(fā)展無污染或少污染的技術(shù)，同時要根據(jù)物理化學(xué)、材料學(xué)、電工學(xué)、光學(xué)、機(jī)械工程、經(jīng)濟(jì)學(xué)、環(huán)境科學(xué)等的進(jìn)步而對電鑄技術(shù)進(jìn)行新的開發(fā)和發(fā)展，包括開發(fā)出新的適合用于電鑄的合金電鑄技術(shù)。

酸洗鈍化操作中的工藝控制

酸溶液單獨用于清除游離鐵和其它金屬污物是有效的，但對清除氧化鐵皮，厚的腐蝕產(chǎn)物，回火膜等無效，一般應(yīng)采用HNO3 HF溶液，為了方便與操作安全，可用氟化物代替HF。單獨HNO3溶液可不加緩蝕劑，但HNO3 HF酸洗時，需要加Lan-826。使用HNO3 HF酸洗，為防止腐蝕，濃度應(yīng)保持5:1的比例。這種用光化學(xué)方法制作的原型用來時行光碟（CD、MD、DVD等）模的電鑄。溫度應(yīng)低于49℃，如過高，會揮發(fā)。