ICP光譜儀如何保養(yǎng)？

(1)ICP光譜儀及光學(xué)系統(tǒng)維護(hù)，是進(jìn)樣系統(tǒng)中精密，關(guān)鍵的部份，需要很好的維護(hù)和使用。ICP光譜儀主要用于微量元素的分析，可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅、磷、硫等少量的非金屬，共72種。在測定完樣品后，特別是測定高鹽溶液之后，的頂部以及炬管噴嘴都會有積鹽份，會造成氣溶膠的通道不暢，—般是出現(xiàn)檢測出來的元素強(qiáng)度下降，儀器反射功率升高等，當(dāng)儀器提示運行光學(xué)初始化時，須先做光學(xué)初始化。

(2)其他。光譜校正是儀器實際測得的波長與理論波長之間出現(xiàn)的偏差別進(jìn)行的校正，一般是通過測試一系列元素的波長來進(jìn)行校正，校正后所得數(shù)據(jù)即為對光譜彼進(jìn)行校正的校正數(shù)據(jù)。每次開機(jī)前，應(yīng)事先計劃好實驗方案，做好準(zhǔn)備工作，避免在一段時間內(nèi)反復(fù)開機(jī)，因為每次開機(jī)時，其瞬間通過的電流要遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于正常工作時的電流，可能造成某些元件的過早老化。icp光譜儀是需要定期維護(hù)地設(shè)備,這樣才能保證設(shè)備地正常運行和經(jīng)久耐用。

ICP光譜儀的目標(biāo)元素

ICP光譜儀是上世紀(jì)60年代提出、70年代迅速發(fā)展起來的，它的迅速發(fā)展和廣泛應(yīng)用是與其克服了經(jīng)典光源和原子化器的局限性分不開的，那么ICP光譜儀的目標(biāo)元素都有哪些呢？下面小編就來介紹一下：

ICP光譜儀軟質(zhì)樣品（例如：銅、鋁、鋅、鉛）必須車削表面或用酒精濕磨.磨好的表面一定不要玷污（例如用手觸摸）.考慮到金屬熱漲冷縮效應(yīng),會影響光線穩(wěn)定性.溫度變化會影響儀器的熱平衡,對和一些電器件會造成不穩(wěn)定,若溫差較大對光路也會有影響.

ICP光譜儀對于鋼和鑄鐵（顆粒大小,對鋼是60到80之間,對鑄鐵是40到60之間）,建議用適合于本儀器樣品的砂紙干磨.砂紙一定不要被高合金含量的樣品污染（例如：應(yīng)該先用于低合金樣品，再用于高合金樣品）.樣品必須在清潔的、規(guī)范的砂紙上磨（沒有先前激發(fā)處理留下的激發(fā)的痕跡）.樣品表面不能被拋光（適時更新用過的砂紙）.必須確保樣品在磨的過程中沒有過熱（樣品應(yīng)該與砂紙只有短暫的接觸）。而目前，光譜儀的分析技術(shù)得到了廣泛的應(yīng)用，如空氣污染、水污染、食品衛(wèi)生、金屬工業(yè)等的檢測中。如果需要，樣品應(yīng)該用水冷卻，再干燥，再盡可能短的時間干磨.

ICP光譜儀可用標(biāo)樣中目標(biāo)元素的“真實濃度”與分析線對和強(qiáng)度比（R）擬合工作曲線（校準(zhǔn)曲線）。更進(jìn)一步，如果既要校正基體含量的影響，又要校正共存元素的干擾，就應(yīng)該用“表觀濃度”來擬合工作曲線。如果鐵含量變化過大，如高、中合金鋼，其影響不可忽略，需要用標(biāo)樣中目標(biāo)元素的“相對濃度”（或“濃度比”）與分析線對和強(qiáng)度比（R）擬合工作曲線，這就是我國光譜分析的前輩講的“誘導(dǎo)含量法”。如果希望用同一工作曲線同時分析高、中、低合金鋼，那就都要用“相對濃度”來校正基體含量的影響。更進(jìn)一步，如果既要校正基體含量的影響，又要校正共存元素的干擾，就應(yīng)該用“表觀濃度”來擬合工作曲線。

ICP光譜儀雖然本身測量準(zhǔn)確度很高，但測定試樣中元素含量時， 所得結(jié)果與真實含量通常不一致，存在一定誤差，并且受諸多因素的影響，有的材料本身含量就很低。

ICP光譜儀的校正方法

分析校正

分析校正是為了讓所測元素濃度與儀器所檢測到的光強(qiáng)度建立起聯(lián)系，就是我們常說的做標(biāo)準(zhǔn)曲線，輸^事先配好的標(biāo)樣值，再讓儀器對其進(jìn)行檢測，讓檢測值與濃度之間建立起關(guān)系曲線，未知樣品濃度按照該曲線及所；剛得濃度值得出。(2)ICP光譜儀的供電，保證儀器運行時，不會因為線路的電壓降過大，造成儀器損壞，影響儀器壽命。在ICP—OES的分馓正中，檢測值與濃度之間—般是線性關(guān)系。

在實際工作中，存在其他元素峰對所測元素峰有干擾的情況時，可以通過調(diào)節(jié)計算方法及火焰觀測方式來減小誤差，提高線性相關(guān)系數(shù)。這里需要說明線性相關(guān)系數(shù)是準(zhǔn)確度的必要不充分條件