棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動電解出產線4條,手動電解出產線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規(guī)范：2300*1100*1000，所加工產品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。微觀拋光或光澤化兩種拋光作用是不同的，以鋼在硝l酸磷酸型拋光液中的拋光為例說明。加工后的產品完全可以經過：ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗。

區(qū)別于傳統(tǒng)的純機械或純化學的拋光方法，CMP通過化學的和機械的綜合作用，從而避免了由單純機械拋光造成的表面損傷和由單純化學拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點。拋光時，高速旋轉的拋光輪(圓周速度在20米/秒以上)壓向工件，使磨料對工件表面產生滾壓和微量切削，從而獲得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可達Ra0。它利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進行拋光以實現(xiàn)高質量的表面拋光。

CMP拋光液:CMP拋光液是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。

棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動電解出產線4條,手動電解出產線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規(guī)范：2300*1100*1000，所加工產品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。

流體拋光 流體拋光是依*高速流動的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達到拋光的目的。拋光質量標準：漆面上無氧化層、劃痕等缺陷拋光：拋光是研磨后進一步平整漆面。常用方法有：磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動，使攜帶磨粒的液體介質高速往復流過工件表面。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物并摻上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。

就功能性而言，化學拋光除了能得到物理、化學清潔度的表面外，還能除去不銹鋼表面的機械損傷層和應力層，得到機械清潔度的表面，這有利于防止零件的局部腐蝕，提高機械強度、延長零件使用壽命。化學拋光可作為電鍍預處理工序，也可在拋光后輔助以必要的防護措施直接使用。從本世紀40年代初有了關于不銹鋼化學拋光的專利以來，迄今已有不少配方公諸于世，但人們在實際應用時仍然感到很困難。因為不銹鋼品種繁多，不同牌號的不銹鋼具有不同的腐蝕規(guī)律，不可能采用同一種溶液，所以不銹鋼化學拋光溶液有多種類型。