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真空鍍膜操作規(guī)程

1.在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下，開動真空鍍膜機(jī)時，必須先開水管，工作中應(yīng)隨時注意水壓。

2.在離子轟擊和蒸發(fā)時，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電......1.在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下，開動真空鍍膜機(jī)時，必須先開水管，工作中應(yīng)隨時注意水壓。

2.在離子轟擊和蒸發(fā)時，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。

3.在用電子槍鍍膜時，應(yīng)在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃鉛玻璃，觀察時應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。

4.鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時排除有害粉塵。

5.有毒物品要妥善保管，以防。

6.酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行，并要戴橡皮手套。

7.把零件放入酸洗或堿洗槽中時，應(yīng)輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應(yīng)加蓋。

8.工作完畢應(yīng)斷電、斷水。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

真空鍍膜的物理過程

PVD（物理氣相沉積技術(shù)）的基本原理可分為三個工藝步驟：

（1）鍍料的氣化：即鍍料的蒸發(fā)、升華或被濺射從而形成氣化源

（2）鍍料粒子（（原子、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞，產(chǎn)生多種反應(yīng)。

（3）鍍料粒子在基片表面的沉積

PVD是英文Physical?Vapor?Deition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。

鍍膜適用于那些地方

鍍膜常用在相機(jī)鏡頭、近視、、老花鏡等矯正眼鏡上使用。

鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。目的是希望減少光的反射，增加透光率，抗紫外線并抑低耀光、鬼影;不同顏色的鍍膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，鍍膜尚可延遲鏡片老化、變色的時間。

眼鏡鍍膜常用藥品:二氧化鋯(ZrO?)、二氧化硅(SiO?)、ITO(增加鏡片導(dǎo)電抗紫外線)、HT-100(防水膜，防止老化和氧化)……

鍍膜原理:高電壓電子槍將以上幾種藥品汽化，均勻分布在鏡片表面。