超純水設(shè)備的重要配件清洗

膜清洗頻率與預(yù)處理措施的完善程度是緊密相關(guān)的。預(yù)處理越完善，清洗間隔越長，反之，預(yù)處理越簡(jiǎn)單，清洗頻率越高。盡可能在脫鹽率下降顯示出來以前采取措施。正規(guī)安排的保護(hù)性維護(hù)清洗不足以保護(hù)反滲透系統(tǒng)。譬如，由于預(yù)處理設(shè)備運(yùn)行不正常，進(jìn)水條件在短時(shí)間內(nèi)就會(huì)發(fā)生變化。

反沖洗對(duì)于防止大顆粒對(duì)某些型式反滲透膜件的堵塞是有效的。但不是所有的污染都可通過簡(jiǎn)單的反沖洗就能清除掉，還需要有周期的化學(xué)清洗?；瘜W(xué)清洗除需增加藥劑和人工費(fèi)用外，還有污染問題，所以也不可過于頻繁，每月不應(yīng)超過1-2次，每次清洗時(shí)間約1-2h?；瘜W(xué)清洗系統(tǒng)通常包括一臺(tái)化學(xué)混合箱和與之相配的泵、混合器、加熱器等?；瘜W(xué)清洗常是根據(jù)運(yùn)行經(jīng)驗(yàn)來決定(可以根據(jù)每列設(shè)備壓降讀數(shù)與運(yùn)行時(shí)間的關(guān)系曲線，或是依據(jù)產(chǎn)水量、淡水水質(zhì)和膜的壓降等)。

請(qǐng)問超純水和去離子水是不是一回事？

用途不同

　　超純水的用途：

　　電子、電力、電鍍、照明電器、實(shí)驗(yàn)室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗(yàn)、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃、化工工藝用水、化學(xué)藥劑、化妝品、單晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件、高壓變電器的清洗等。

　　去離子水的用途：

　　實(shí)驗(yàn)室、化驗(yàn)室用水，一般實(shí)驗(yàn)室的常規(guī)試驗(yàn)、配置常備溶液、清洗玻璃器皿等；電子工業(yè)生產(chǎn)，如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計(jì)算機(jī)硬盤、集成電路芯片、單晶硅半導(dǎo)體等；電力鍋爐，鍋爐所需軟化水、除鹽；

EDI超純水設(shè)備的工作原理

電去離子(Electrodeionization 簡(jiǎn)稱EDI)是將電滲析膜分離技術(shù)與離子交換技術(shù)有機(jī)地結(jié)合起來的一種新的制備超純水(高純水)的技術(shù)，它利用電滲析過程中的極化現(xiàn)象對(duì)填充在淡水室中的離子交換樹脂進(jìn)行電化學(xué)再生。

　　EDI膜堆主要由交替排列的陽離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負(fù)電極組成。在直流電場(chǎng)的作用下，淡水室中離子交換樹脂中的陽離子和陰離子沿樹脂和膜構(gòu)成的通道分別向負(fù)極和正極方向遷移，陽離子透過陽離子交換膜，陰離子透過陰離子交換膜，分別進(jìn)入濃水室形成濃水。

超純水系統(tǒng)膜污染產(chǎn)生的原因

金屬氧化物的沉積

　　地下水中常含有鐵、錳等游離離子，它們與空氣或氧化劑接觸后，能被氧化成難溶膠體而堵塞膜孔，引起反滲透膜壓差上升，產(chǎn)水量下降。

懸浮顆粒及膠體污染

　　當(dāng)反滲透給水前處理系統(tǒng)中保安過濾器短路或發(fā)生故障時(shí)，保安過濾器失去過濾功能，進(jìn)水中懸浮顆粒和膠體無法去除，反滲透本體進(jìn)水濁度和於塞指數(shù)遠(yuǎn)遠(yuǎn)超出了反滲透給水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)的范圍，致使懸浮顆粒及膠體在膜面上形成非晶體沉淀，堵塞反滲透膜進(jìn)水通道，使膜受到污染。