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生產(chǎn)過程中無水會(huì)以氣體形式存在于作業(yè)環(huán)境的空氣中,它有較高的毒性;生產(chǎn)副產(chǎn)品和原料氟硅酸、硫酸和發(fā)yan硫酸會(huì)以酸霧形式存在于作業(yè)環(huán)境的空氣中,回轉(zhuǎn)爐加熱用的煤氣等都會(huì)對(duì)操作人員的身體健康造成危害。另外,對(duì)面積超過5%以上的氫氟酸燒shan還應(yīng)密切注意全身狀況,尤其是心能功能的改變,傷后心音會(huì)迅速出現(xiàn)低頓,心功能驟然降低,肌酸激酶和天門冬氨酸轉(zhuǎn)移酶升高,心臟的損害成為傷后臟器功能損傷的始發(fā)臟器。當(dāng)這些有毒物質(zhì)在工作場所空氣中的濃度超過容許濃度時(shí),危害更為嚴(yán)重。還存在發(fā)生氣體急性中du的危險(xiǎn)性。廣州潔瓏化工專業(yè)批發(fā):福建永飛,50%、55%,45%,40%,35%,大量批發(fā)。
特別是無水儲(chǔ)罐和管道,一旦發(fā)生破lei會(huì)造成外逸,導(dǎo)致現(xiàn)場人員中du事故的發(fā)生,并對(duì)周圍環(huán)境造成破壞。導(dǎo)致這一事故發(fā)生的原因主要有:設(shè)備材料選擇不當(dāng)、機(jī)械設(shè)備密封不嚴(yán);監(jiān)控系統(tǒng)失控;操作失誤;維修不及時(shí)等導(dǎo)致設(shè)備及管道腐蝕。
為GBl8218—2000《重大危險(xiǎn)源辯識(shí)》中所列的有毒物質(zhì),生產(chǎn)場所的臨界量為2t,貯存區(qū)臨界量為5t。若生產(chǎn)、貯存的數(shù)量超過規(guī)定的臨界量,將構(gòu)成有毒物質(zhì)重大危險(xiǎn)源。
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應(yīng)該儲(chǔ)存在密封的塑料瓶里。
在水中溶解HF(氟化氫)。用來雕刻玻璃,清洗鑄件上的殘砂,控制發(fā)酵,電拋光,清洗腐蝕半導(dǎo)體硅片(與HNO3混酸)。由于氫原子與氟原子之間的結(jié)合能力較強(qiáng),使氫氟酸無法在水中完全電離。
氫氟酸可以溶解許多其他酸不能溶解的玻璃(主要成分:二氧化硅)。產(chǎn)生氣體的反應(yīng)方程如下:
SiO2(s) 4HF(aq)=SiF4(g)↑ 2H2O(l)
產(chǎn)生的SiF4可以繼續(xù)和過量的HF產(chǎn)生氟硅酸:
SiF4(g) 2HF(aq)=H2[SiF6](aq),氟硅酸是二元強(qiáng)酸。
正因?yàn)槿绱?,它必須?chǔ)存在塑料(理論上,放在聚四氟乙烯制成的容器中)、蠟或鉛制成的容器中。氫氟酸沒有還原性。如果你想長期儲(chǔ)存,你不僅需要一個(gè)密封容器,還需要盡可能排出容器中的空氣。
(可以腐蝕玻璃)與硅和硅化合物反應(yīng)產(chǎn)生氣態(tài),但不會(huì)腐蝕塑料,石蠟,鉛,金,鉑??梢院退鸵掖蓟旌鲜褂?。因?yàn)闅湓雍头娱g結(jié)合的能力相對(duì)較強(qiáng),使得氫氟酸在水中不能完全解離。市場上銷售的氫氟酸溶質(zhì)分?jǐn)?shù)為40%,相當(dāng)于22.5毫升/升。氫氟酸的35.35%是共沸混合物。毒性致死量為25毫克/公斤。具有腐蝕性,強(qiáng)烈腐蝕金屬、玻璃和含硅物體。例如,吸入蒸汽或接觸皮膚會(huì)導(dǎo)致更難愈合的潰瘍。
工業(yè)用氟加熱至500℃進(jìn)行熱分解,或用螢石(氟化鈣CaF2)和加熱至700℃制備氫氟酸。
硫酸法將干燥的螢石粉與硫酸按比例1:(1.2~1.3)混合,送入旋轉(zhuǎn)反應(yīng)爐進(jìn)行反應(yīng),爐內(nèi)氣相溫度控制在280℃±10℃。氫氟酸廣泛用于雕刻玻璃、清洗鑄件上的殘砂、控制發(fā)酵、電拋光、清洗腐蝕半導(dǎo)體硅片(與HNO,的混酸)、建筑物外墻清洗等。反應(yīng)性氣體進(jìn)入粗餾塔,除去大部分硫酸、水分和螢石粉,塔的溫度控制在100~110℃,塔的頂部溫度控制在35~40℃。粗氟化氫氣體通過脫氣塔凝結(jié)成液體,塔的溫度控制在20~23℃,塔的頂部溫度控制在-8℃±1℃,然后進(jìn)入精餾塔進(jìn)行精餾,塔的頂部溫度控制在30~40℃,塔的頂部溫度控制在19.6℃±0.5℃。
含有低于60%氟化氫的水溶液,是無色澄清的煙液。氫氟酸是弱酸,簡單的說是因?yàn)镕對(duì)電子吸引力強(qiáng)(元素中最強(qiáng)的),導(dǎo)致負(fù)電荷高度集中,由于HF中的H顯正電性,所以由于靜電力的作用而難以電離,所以HF是弱酸。工業(yè)品通常是含HF40~45%的水溶液。具有刺激性氣味,與或形成氟磺酸,與鹵代芳烴、醇、烯、烴類反應(yīng),如果職業(yè)人員在日常工作中接觸到氫氟酸,如果不適當(dāng)使用,可能對(duì)人體造成的傷害是不可小看的,其暴露途徑包括皮膚及粘膜接觸、呼吸道吸入及腸胃道攝入,如果皮膚接觸到50%以上較高濃度的氫氟酸,會(huì)立即引起疼痛、泛白、反應(yīng),1至2小時(shí)內(nèi)產(chǎn)生水泡,6至24小時(shí)內(nèi)壞死及潰爛,如果接觸到10%以下較低濃度者,往往在6小時(shí)或更長時(shí)間才會(huì)出現(xiàn)疼痛等癥狀,因此常被當(dāng)事人忽視,導(dǎo)致性傷害,一般常見的損傷部位是手指。
生成能溶于水的含氟有機(jī)化合物,具有較強(qiáng)的腐蝕性,為中等強(qiáng)度的酸。在需求快速增長的推動(dòng)下,2004年這些衍生物生產(chǎn)裝置都以高開工率運(yùn)轉(zhuǎn)。具有劇臭,性極毒,觸碰皮膚易引起潰爛,其程度比任何酸厲害,若吸入它的蒸汽,可致命,因此使用時(shí)一定要特別小心。此外,像從呼吸道、腸胃道等其他途徑暴露在外,會(huì)出現(xiàn)咳嗽、燒灼感、呼吸困難等癥狀,或者會(huì)引起、惡心、、腸道穿孔等。HF對(duì)人體造成的傷害,除酸性損傷外,進(jìn)入人體的氟離子與鈣、鎂離子結(jié)合,會(huì)引起血鈣、鎂離子的含量降低、血鉀過高,從而影響神經(jīng)及心臟血管系統(tǒng)。
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氫氟酸是氟化氫氣體的水溶液,清澈、無色、煙霧腐蝕性液體,具有強(qiáng)烈的刺激性氣味,易揮發(fā),置于空氣中,即白煙。雖然不燃,但可以與大多數(shù)金屬發(fā)生反應(yīng),產(chǎn)生氫氣,引起。而且氫氟酸是一種高危毒物,接觸皮膚容易潰爛。
氫氟酸理論上是一種低溶度弱酸,但具有很強(qiáng)的腐蝕性。因此,選擇化學(xué)泵時(shí),耐腐蝕的氟塑料化學(xué)泵一般是。氟塑料磁力泵和氟塑料離心泵更適合。氟塑料泵中的葉輪和泵蓋由金屬嵌件外包氟塑料整體燒結(jié)壓制而成。
氫氟酸就會(huì)使依賴上述兩種離子起作用的失去作用。目前,世界上無水氫氟酸的工業(yè)化生產(chǎn)主要是走螢石路線,即以螢石粉(CaF2)和硫酸(H2S04)反應(yīng)制得。接觸氫氟酸可能不會(huì)引起疼痛,而癥狀可能會(huì)在氫氟酸和骨骼中的鈣發(fā)生反應(yīng)幾個(gè)小時(shí)后才會(huì)發(fā)生,可能對(duì)人體造成的傷害是不可小看的,其暴露途徑包括皮膚及粘膜接觸、呼吸道吸入及腸胃道攝入,如果皮膚接觸到50%以上較高濃度的氫氟酸,會(huì)立即引起疼痛、泛白、反應(yīng),1至2小時(shí)內(nèi)產(chǎn)生水泡,6至24小時(shí)內(nèi)壞死及潰爛,如果接觸到10%以下較低濃度者,往往在6小時(shí)或更長時(shí)間才會(huì)出現(xiàn)疼痛等癥狀,因此常被當(dāng)事人忽視,導(dǎo)致性傷害,無法更好地觀察液位高度。嚴(yán)重時(shí)甚至?xí)?dǎo)致安全事故。因此,在制作測(cè)量氫氟酸液位的磁性翻板液位計(jì)的面板時(shí),必須選擇亞克力作為磁性翻板液位計(jì)顯示面板的窗戶材料。
氫氟酸中的氫離子對(duì)人體組織有脫水和腐蝕作用,氟是活躍的非金屬元素之一。建議操作人員佩戴自吸過濾式防毒面具,穿橡膠耐酸堿服,戴橡膠耐酸堿手套。皮膚接觸氫氟酸后,氟離子不斷解離,滲入深層組織,溶解細(xì)胞膜,氟化物中的陰離子會(huì)與氫離子分離,由于氟離子半徑,很容易穿透人體細(xì)胞膜,所以滲透速度極快,可迅速在體內(nèi)造成損傷,并進(jìn)入體內(nèi),造成全身傷害。
用沙土,干石灰或蘇打灰混合。還可用大量的水沖洗,洗凈后放入廢水系統(tǒng)。
重大泄漏:筑起圍堤或挖坑;用泵移至槽車或收集器中,或送至廢物處理場進(jìn)行處置。
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氫氟酸質(zhì)子的物質(zhì)很少,在無水氫氟酸中有許多酸性化合物,而無水氫氟酸則呈堿性或。如果不進(jìn)行處理,最終可能導(dǎo)致心、gan、shen和神經(jīng)系統(tǒng)的嚴(yán)重甚至是致命損傷。立即用大量水進(jìn)行長時(shí)間沖洗,盡快稀釋并沖走氫氟酸。它是的措施,的關(guān)鍵??偟脑瓌t是使用一些可溶性的鈣鎂鹽類制劑,使它們與氟離子結(jié)合,形成不溶性的氟化鈣或氟化鎂,采用石灰水浸泡或濕敷,易于推廣。
但比氟磺酸弱。腐蝕性強(qiáng),嚴(yán)重?fù)p害牙齒和骨骼。硅化合物腐蝕性強(qiáng)。應(yīng)該儲(chǔ)存在密封的塑料瓶里。
在水中溶解HF(氟化氫)。用來雕刻玻璃,清洗鑄件上的殘砂,控制發(fā)酵,電拋光,清洗腐蝕半導(dǎo)體硅片(與HNO3混酸)。