性能氮化硅磚是以Si3N4為主要成分的特殊耐火材料制品

性能氮化硅磚是以Si3N4為主要成分的獨(dú)特耐火保溫材料產(chǎn)品。相對(duì)密度3.19g/cm3。1、氮化硅結(jié)合碳化硅制品，質(zhì)地堅(jiān)硬，莫氏硬度約為9，在非金屬材料中屬于硬度材料，僅次于金剛石。熱膨脹系數(shù)小，為2.53×10-6/℃。1200℃下導(dǎo)熱率18.4W/(m·K)。耐熱性好，1200～2000℃熱交換器上一千次不毀壞?？拐蹚?qiáng)度可達(dá)200~700MPa，耐空氣氧化溫度1400℃，在復(fù)原氛圍中可達(dá)1870℃。室內(nèi)溫度電阻1.1×1014Ω·m。選用硅粉滲氮后煅燒或壓合方式制得。

氮化硅磚是指以氧化鎂(MgO)和三氧化二鉻(Cr2O3)為主

氮化硅磚就是指以氧化鎂(MgO)和三氧化二鉻(Cr2O3)為主要成分，方鎂石和尖晶石為關(guān)鍵礦物質(zhì)成分的耐火保溫材料產(chǎn)品。這種磚耐火度高，高溫抗壓強(qiáng)度大，抗偏堿渣侵蝕性強(qiáng)，熱穩(wěn)定性，對(duì)酸性渣也是有一定的適應(yīng)能力。氮化硅（Si3N4）存有有3種結(jié)晶體構(gòu)造，分別是α、β和γ三相。氣壓燒結(jié)氮化硅在1～10MPa氣壓下，2000℃左右溫度下進(jìn)行。制得方式氮化硅磚選用硅粉滲氮后煅燒或壓合方式制得。燒造氮化硅磚的生產(chǎn)工藝流程與鎂質(zhì)磚大致差不多。以便清除磚在燒制全過(guò)程中因?yàn)镸gO和Cr2O3、Al2O3或立即融合氮化硅磚。優(yōu)勢(shì)氮化硅磚耐火度高，高溫抗壓強(qiáng)度大，抗偏堿渣侵蝕性強(qiáng)，熱穩(wěn)定性，對(duì)酸性渣也是有一定的適應(yīng)能力。運(yùn)用用以航空公司、冶金工業(yè)、機(jī)械設(shè)備、半導(dǎo)體材料等工業(yè)生產(chǎn)中生產(chǎn)制造高溫滾動(dòng)軸承、冶金工業(yè)鉗鍋、半導(dǎo)體材料地區(qū)冶煉舟器等。氮化硅是一種關(guān)鍵的構(gòu)造結(jié)構(gòu)陶瓷。它是一種超硬化學(xué)物質(zhì)，自身具備潤(rùn)濕性，而且抗磨損，為原子晶體；高溫時(shí)。并且它還能抵御熱冷沖擊性，在空氣中加溫到1000℃之上，大幅度制冷再大幅度加溫，也不會(huì)。

相對(duì)分子質(zhì)量140.28?；疑?、白色或灰白色。屬高溫難溶化合物，無(wú)熔點(diǎn)，抗高溫蠕變能力強(qiáng)，不含粘結(jié)劑的反應(yīng)燒結(jié)氮化硅負(fù)荷軟化點(diǎn)在1800℃以上；六方晶系。晶體呈六面體。反應(yīng)燒結(jié)法制得的Si3N4密度為1.8~2.7g/cm3，熱壓法制得Si3N4密度為3.12~3.22g/cm3。莫氏硬度9~9.5，維氏硬度約為2200，顯微硬度為32630MPa。碳化硅制品大部分都是黑色的，在窯爐上使用以后，由于出現(xiàn)氧化情況，表皮會(huì)呈現(xiàn)發(fā)白的氧化層，有些氧化嚴(yán)重的碳化硅制品砸開(kāi)以后，斷面已經(jīng)看不出碳化硅顆粒了，整個(gè)斷面都是灰色或者黃色，有些還會(huì)出現(xiàn)紅色的現(xiàn)象。熔點(diǎn)1900℃（加壓下）。通常在常壓下1900℃左右分解。比熱容0.71J/(g·K)。生成熱為-751.57kJ/mol。熱導(dǎo)率為（2-155）W/(m·K)。線膨脹系數(shù)為2.8~3.2×10-6/℃(20~1000℃)。不溶于水。溶于。在空氣中開(kāi)始氧化的溫度1300~1400℃。比體積電阻，20℃時(shí)為1.4×105 ·m,500℃時(shí)為4×108 ·m。彈性模量為28420~46060MPa。耐壓強(qiáng)度為490MPa（反應(yīng)燒結(jié)的）。1285℃時(shí)與二氮化二鈣反應(yīng)生成二氮硅化鈣，600℃時(shí)使過(guò)渡金屬還原，放出氮氧化物?？箯潖?qiáng)度為147MPa。可由硅粉在氮?dú)庵屑訜峄螓u化硅與氨反應(yīng)而制得。電阻率在10^15-10^16Ω.cm?？捎米鞲邷靥沾稍稀?/p>